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DIC

  • 小間番号W3340

DICケミトロニクスは、化学とエレクトロニクスを融合させたユニークな素材を提供する事業領域です。電気・電子的な特性を持つ高機能材料を通じて、半導体、通信、デバイス、バッテリーなど、暮らしの進化を支える分野の発展に貢献しています。 電子情報デバイスはますます高性能化・高密度化が進み、製造プロセスも複雑化しています。そのため、素材の性能だけでなく、接合や界面の制御など、微細な領域における高度な技術力が求められています。 DICケミトロニクスは、化学とエレクトロニクスの擦り合わせ技術を得意に、こうした高度化するニーズに応える製品開発を推進しています。特に、AI、5G、EV、ロボティクスなど、未来の暮らしを支える先端技術分野に向けて、快適で安全な社会の実現に貢献する革新的な素材の開発に取り組んでいます。


 出展製品

  • 電子部品の仮固定をわずか数秒で剥離できる新手法 DAITAC® 工程用ストレッチテープ
    電子部品製造の省人化・自動化に応えるDAITAC工程用ストレッチテープは、貼付後に“伸ばすだけ”で数秒で剥離可能。加熱やUV照射不要で工程を簡略化し、タクトタイム短縮に貢献します。糊残りが少なく被着体へのダメージも最小限。粘着剤・基材・装置まで一貫提案し、現場課題に応じたカスタマイズも可能です。...

  • 電子部品製造工程の省人化・自動化ニーズが高まる中、DAITAC工程用ストレッチテープはわずか数秒で剥離できる画期的な新手法をご提案いたします。

    ・工程用ストレッチテープは、貼付後にテープを“伸ばすだけ”で簡単に剥離できる独自設計を採用

    ・加熱やUV照射などのトリガーが不要で即時剥離が可能なため、工程の簡略化・タクトタイム短縮に大きく貢献します

    ・さらに、糊残りが少なく、被着体へのダメージも最小限。粘着剤・基材・装置提案まで一貫対応できるため、現場の課題に合わせたカスタマイズも可能です

  • 帯電防止装置eFLOW®/脱気モジュールSEPAREL®
    eFLOW®は半導体洗浄工程で超純水の比抵抗値を安定制御し、静電気破壊やゴミ再付着を防止。歩留まり向上に貢献します。SEPAREL®はPTFE膜を用いた脱気モジュールで、酸・アルカリ・有機溶剤から気泡を除去し、微細欠陥を防ぎ均一塗布を実現します。...

  • 半導体製造や精密加工の現場では、微細化が進むにつれ、静電気や気泡による欠陥が歩留まりに大きな影響を与えます。

    ・eFLOW®シリーズは、超純水の比抵抗値を安定的に制御し、静電気破壊やゴミ再付着を防止することで、洗浄工程の品質を飛躍的に向上させます。独自の膜技術を活用し、CO₂供給による精密な抵抗値調整が可能で、カスタマイズにも対応。半導体洗浄工程における静電気トラブルをゼロに近づけ、安定した生産を支えます。

    SEPAREL®シリーズは、PTFE膜を採用した高性能脱気モジュールです。酸・アルカリ・有機溶剤など幅広い液体から気泡を効率的に除去し、微細欠陥の発生を防止。これにより、塗布工程の均一性を確保し、次世代ナノファブリケーションに不可欠な高精度加工を実現します。全接液部がフッ素樹脂製で耐薬品性に優れ、半導体やLCD製造プロセスに最適です。

    両製品は、歩留まり向上と品質安定化を追求する現場において、欠かせないソリューションです

  • 未来の通信を支える低誘電ビニル樹脂 EPICLON® NE-V-RD004
    急速に進化する5G・生成AI、そして6G時代に向け、高速通信向け樹脂の需要が拡大しています。当社の「EPICLON® NE-V-RD004」は低誘電率・低誘電正接に優れ、信号劣化を抑え高速・大容量通信の安定性を確保。基地局やデータセンターなど幅広い分野で性能を発揮し、低粘度設計で加工性・相溶性も高く、次世代通信機器やIoT、自動運転にも対応するキーマテリアルです。...

  • 急速に普及する5Gや生成AIの進化、そしてその先の6G時代を見据え、より高速・大容量な通信インフラの構築が求められる中、高速通信向け樹脂のニーズがこれまで以上に高まっています。
    このような市場ニーズに対応するため、当社が開発したビニル樹脂「EPICLON® NE-V-RD004」は、次世代の高速通信を支えるために設計された高機能材料です。
    ・本製品は、低誘電率および低誘電正接に優れており、伝送中の信号劣化を抑え、高速・大容量データ通信の安定性と信頼性を確保します
    ・5G/6G基地局をはじめ、高速通信モジュールやデータセンター関連機器など、電気特性が求められる幅広い分野において、その性能を最大限に発揮します
    ・さらに、低粘度設計により加工性が高く、他樹脂との相溶性にも優れているため、設計の自由度を大きく広げることが可能です

    次世代の通信機器やIoT、自動運転分野にも幅広く対応できる本製品は、未来の通信社会を支えるためのキーマテリアルとして、通信技術の進化を力強く後押しします。

  • i 線フォトレジスト用ポリマーPHENOLITE® PR-700シリーズ
    半導体の進化には後工程技術の高度化が不可欠です。RDLやTSVなどで厚膜用途が増え、i線レジストにも化学増幅型が求められています。PHENOLITE PR-700シリーズは高解像性と高耐久性を両立し、一般ノボラック比で約1.5倍のガラス転移温度を発現。厚膜でも鮮明なパターン形成が可能で、熱ダレを防止。フォトレジストだけでなくRDL用サブポリマーにも応用できます。...

  • 半導体のさらなる進化には、微細加工技術の進歩だけでなく、より高度な後工程技術の開発と導入が必要不可欠になってきました。さまざまなパッケージ構造が提案される中で、ひと際重要になるRDL、TSV、バンプといった後工程において、レガシー世代とも言われるi線レジストにも変化点が訪れています。従来以上の厚膜用途が増え、これまでKrF世代以降で主流であった化学増幅型タイプがi線レジストにおいても求められるようになってきました。また、後工程では前工程以上の耐熱性・耐薬品といった要求も高まります。この高解像性×高耐久性を両立するのがPHENOLITE PR-700シリーズです。化学増幅型フェノール樹脂で、一般的に化学増幅型レジストに用いられるPHS樹脂はもちろん、i線レジストで用いられる一般ノボラック樹脂と比較しても1.5倍近いガラス転移温度を発現。これにより厚膜用途でもスカッとしたパターンを形成できるのに加え、高温がかかってもパターンの熱ダレが起きません。新規レジスト開発に是非ご検討ください。フォトレジスト以外にも、RDLへのサブポリマーとしての応用も可能な製品です。
  • 【開発品】①CPO向けポリマー光導波路材料 ②光応答性接着・剥離剤(高耐熱×光応答性の仮固定材)
    ①CPO向けポリマー光導波路材料 AI・クラウド時代に不可欠な光電融合技術で、高速・低消費電力通信を実現。DICは慶應義塾大学と共同でCPO対応ポリマー光導波路材料を開発し、次世代データセンターや光通信ネットワークの高性能化に貢献します。 ②光応答性接着&剥離剤(高耐熱×光応答性の仮固定材) 半導体アドバンスパッケージ工程に最適な仮固定材。200℃以上の耐熱性と光照射による簡易剥離で、リリース層不要・高スループットを実現し、TSVやCMPなど多様な工程に対応!...

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