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NexGen Wafer Systems

  • 小間番号E6044


枚葉式ウエットエッチング&洗浄ソリューション

NexGen Wafer Systems社は、枚葉式ウエットエッチング&洗浄用の半導体製造装置メーカーです。高精度な処理能力と柔軟なカスタマイズ対応を強みとしています。

半導体製品、MEMS、基板などに使用されるSi基板薄化、薄膜エッチング、メタルエッチング、洗浄などのソリューションを世界7か所の拠点から世界各国のお客様に提供しています。

装置プラットフォームにはMG21、MG22、SERENOの3種類をラインナップし、お客様の用途、必要生産能力、設置スペースなどに応じて、最適なソリューションを選択していただけます。

近年、半導体製造においてウエーハ基板の薄化技術が重要になっています。特に、TTV(Total Thickness Variation) 制御が、高性能製品の高効率生産のための必須技術になってます。弊社の自動化された最先端ソリューションは高精度TTV制御を可能にし、お客様の生産性、品質向上に貢献できることをお約束します

また、弊社は日本のお客様サポート品質向上を目的に、2025年2月に日本法人を設立しました。お客様からのご要望、ご意見をいただき、新製品、ならびに技術開発を進めております。

皆様のご来場を心よりお待ち申し上げております。


 出展製品

  • SERENO
    Redefining Single-Wafer Performance, Precision and Flexibility 大規模量産用装置...

  • PROCESS CHAMBERS  6

    CHEMICALS  3 onboard

    INTEGRATED METROLOGY  Thickness, Roughness, EPD

    WAFER SIZES  6“, 8“, 12“

    CARRIER INTERFACES  FOUP, SMIF, Open Carrier

    THROUGHPUT  Up to 200 wafers per hour

    FOOTPRINT  12 m2

  • MG22
    maximum flexibility in a moderate footprint 最大4種類の薬液に対応、省フットプリント、2種類のウエーハ径同時処理可能...

  • PROCESS CHAMBERS  2

    CHEMICALS  4 external

    INTEGRATED METROLOGY  Thickness, Roughness, EPD

    WAFER SIZES  4”, 6“, 8“, 12“

    CARRIER INTERFACES  Open Carrier, SMIF, FOUP

    THROUGHPUT  Up to 60 wafers per hour

    FOOTPRINT  5m2 (PU) + 3m2 (CDS)

    FOOTPRINT MG22-300  7m2 (PU) + 3m2 (CDS)

  • MG21
    great flexibility in a minimal footprint 最大4種類の薬液に対応、省フットプリント...

  • PROCESS CHAMBERS  1

    CHEMICALS  4 external

    INTEGRATED METROLOGY  Thickness, Roughness, EPD

    WAFER SIZES  4”, 6“, 8“

    CARRIER INTERFACES  Open Carrier, SMIF

    THROUGHPUT  Up to 30 wafers per hour

    FOOTPRINT   3m2 (PU) + 3m2 (CDS)