芝浦メカトロニクス

CDE-80R…8インチ以下のウェーハに対応した1チャンバー装置

CDE-80C…350℃まで加熱可能。SiCウェーハのダメージ除去やGaNのエッチングなどに対応

CDE-82P…高生産性の8インチ以下ウェーハ用2チャンバー装置

　　　　　ロードロックをなくし大気搬送として価格を抑えたハイコストパフォーマンス装置

CDE200/300…CRESCUBEプラットフォームを採用し、200㎜/300㎜それぞれに対応した2チャンバー装置

　　　　　　   CISやパワーデバイス向けで多数実績あり

ICE200/300… CRESCUBEプラットフォームを採用し、200㎜/300㎜それぞれに対応した2チャンバー低温アッシング装置

　　　　　　  TAIKOウエーハなど薄ウェーハにも対応。

ウェーハ製造やウェーハ再生で要求されるFOSBの粗洗浄機能や、

デバイス製造で要求される薬液洗浄に対応可能。

30個/hの高生産性を実現。

１）角型基板対応サイズ

　　600×600㎜、510×515㎜、

　　他(□300×300、310×310㎜等)

２）角型基板対応材質

　　ガラス、有機基板、Siウェーハほか

３）適用工程例

　　・メタル(Cu/Ti)エッチング

　　・受入、工程間洗浄

　　・ほか各種ウェット工程

４）従来コンベア方式/バッチ方式で対応できない開発・研究/少量生産からの適用。量産展開。