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日本ゴア

Minato-ku,  Tokyo 
Japan
https://www.gore.co.jp/
  • 小間番号E6323


Explore advanced PTFE cables, membranes & insulation tech.

"Empowering the Entire SemiconEcosystem From Front to Back-End" (ゴアの技術を通じて半導体業界のサステナブルな進化を支える)をテーマに出展いたします。
現在、開発中の半導体プロセス向けのゴア(R) サーマルインシュレーション(断熱材)を日本で初公開いたします。ゴア® サーマルインシュレーションはシリカエアロゲル材料をベースとした、クリーンで空気よりも優れた熱伝導率特性を持つ断熱シート材料です。ジャケットヒーターメーカー、半導体装置メーカー、半導体工場などで評価を進めていただいています。この他、日本ゴアのブースでは、PTFE材料の使用によって1千万回以上の屈曲耐久性を持ち、高速動作時にも発塵性を抑えられる高屈曲ケーブルや高いクリーン性と高捕集効率、高流量を両立させた液体ろ過PTFE膜であるゴア® マイクロフィルトレーションメディアをご紹介します。ぜひ、お立ち寄りください。


 出展製品

  • 半導体プロセス向けゴア サーマルインシュレーション(開発品)
    ゴア® サーマルインシュレーションはシリカエアロゲル材料をベースとした、クリーンで空気よりも優れた熱伝導率特性を持つ断熱シート材料です。...

  • ブースにてご説明させていただきますので、ぜひお越しください。
  • 露光装置向けゴア® ウルトラクリーンラウンドケーブル
    リソグラフィアプリケーションで使用されるゴア® ウルトラクリーンラウンドケーブルは、EUVなどの高真空環境で使用される露光装置向けに設計された、超高純度・高信頼性・高性能のケーブルおよびアセンブリです。特に、**Cleanliness Grade 1(清浄度グレード1)**に準拠しており、微細化が進む半導体製造において高い性能を発揮します。...

  • 主な特長
    ・清浄度グレード1に準拠:EUVリソグラフィーの厳しいクリーン性要件を満たす。
    ・低パーティクル・低アウトガス・低汚染素材:化学的に不活性で耐熱性のあるPTFE素材を使用。
    ・高い信号整合性:長距離でも高データレートを維持。
    ・柔軟な丸型ケーブル構造:狭いスペースでも容易に設置可能。
    ・精密で信頼性の高い端末処理:安定した接続を実現。
    ・メンテナンス・ダウンタイムの削減:装置の稼働率向上に貢献。
    主な用途
    ・露光装置(Projection Optics Box や Illuminator など)
    ・高真空環境での光学アセンブリ
    ・半導体製造工程全般(洗浄、検査、パッケージング、SoCテストなど)
    技術仕様と品質管理
    ゴアは、製造から最終検査までのすべての工程で厳格な洗浄プロセスを採用しています。これにより、高クリーン・高精度・高信頼性を実現し、半導体製造の歩留まりや生産性の向上に貢献します。
  • 半導体生産設備向けゴア® 高屈曲フラットケーブル
    半導体生産設備向けゴア® 高屈曲フラットケーブルは、半導体生産設備やクリーンルームオートメーション向けに設計された、高い清浄度・耐久性・信頼性を備えたケーブルです。特に、ISOクラス1のクリーンルーム環境や真空環境での使用に最適で、2000万回以上の屈曲耐久性を持ち、信号品質を維持しながらメンテナンスコストを削減します。...

  • 主な特長と利点
    ・発塵・アウトガスが最少レベル:ISO14644-1 クラス1認定、VDIガイドライン2083準拠。
    ・高い屈曲耐久性:曲げ半径50mm、最大加速度4Gで2000万回以上の屈曲に耐える。
    ・軽量・省スペース設計:ケーブルチェーン不要、システム全体の重量を軽減。
    ・信号品質の向上:高速・高精度な信号伝送を実現。
    ・耐熱・耐薬品性:延伸PTFE複合材ジャケットにより、過酷な環境でも安定動作。
    ・完全カスタマイズ対応:電力線、信号線、光ファイバー、圧力空気などを統合可能。

    主な用途
    ・クリーンルームオートメーション
    ・半導体前工程(ウエハー検査・計測)
    ・AOI(自動光学検査)装置
    ・ピックアンドプレース設備
    ・フラットパネルディスプレイ製造
    ・COMSイメージセンサーパッケージング
    ・レンズ製造設備
    ・新規自動化設備の動作制御

  • 半導体製造プロセス用 ゴア® マイクロフィルトレーションメディア
    ゴア® マイクロフィルトレーションメディアは、半導体製造やマイクロエレクトロニクス製造における高純度薬液のろ過に使用される、高性能な精密ろ過メンブレンです。特に、ウェットエッチング、洗浄(WEC)、CMP、リソグラフィなどの工程で、ナノパーティクルの除去によるクリーン性の向上が求められる場面に最適です。...

  • 主な特長
    ・高いクリーン度と低発塵性
    ・高耐薬品性・高耐熱性
    ・疎水性・親水性の両タイプを提供
    ・均一なePTFE微細構造
    ・公称孔径:<10nm〜10μm
    ・ロールやロット間での安定した品質

    主な用途
    ・半導体製造(ロジック、メモリなど)
    ・マイクロエレクトロニクス製造(LED、OLED、FPDなど)
    ・高純度薬液の製造
    メリット
    ・一定の捕集効率で高流量を実現
    ・ナノパーティクルやコンタミネーションの確実なろ過
    ・ウェーハ欠陥の低減と歩留まり向上
    ・長年にわたる信頼性と実績

  • 半導体および電子機器製造プロセス用ゴア® オゾネーションモジュール
    ゴア® オゾネーションモジュールは、超高純度のオゾン水を生成するために設計された装置で、半導体やフラットパネルディスプレイ(FPD)製造工程における洗浄用途に使用されます。独自の膜技術により、気泡のないクリーンなオゾン水を安定的に生成することが可能です。...

  • 主な特長
    ・高濃度オゾン水の生成:最大200 mg/Lの濃度で、安定した供給が可能。
    ・バブルフリー:膜式気液接触技術により、気泡の発生を防止。
    ・パーティクル低減:PTFEの多孔質構造がオゾンガス中のパーティクルを除去。
    ・環境に優しい:オゾン水は薬液使用量や廃液処理コストの低減に貢献。


    主な用途
    ・半導体ウェーハ洗浄
    ・ロジック・メモリ製造
    ・フラットパネルディスプレイ(FPD)洗浄
    ・フォトマスク洗浄
    ・LED/OLED/QOLED製造

    他の溶解方式との違い
    従来のオゾン溶解方式(エジェクターやスタティックミキサー)とは異なり、ゴア® オゾネーションモジュールは拡散型の溶解方式を採用。これにより、気泡や圧力変動のない、よりクリーンで安定したオゾン水の供給が可能になります。