テクセンドフォトマスク

弊社埼玉・朝霞サイトで生産する φ200mm のラウンド型シリコンナノインプリントモールド。本技術は、EBリソグラフィを活用した超微細加工により、 φ200mm シリコンウェハ全面に複雑な３D構造の形成など、高精度なナノ構造を形成可能です。UVナノインプリント方式により、常温で高再現性のパターン転写が可能で、製造工程の簡素化と省エネルギー化を実現。用途はAR/MR光学素子、メタサーフェス、DOE、バイオチップ、DFBレーザーなど多岐にわたり、パターン形状のカスタマイズにも柔軟に対応します。モールドサイズはφ200mm、パターン領域はφ180mm（EE:10mm）で、量産に最適な仕様です。

2025年9月より、ナノインプリントの試作開発支援の開始に伴い、EVグループ製の完全統合型ナノインプリントリソグラフィ装置「HERCULES® NIL200」を導入いたしました。  φ100mm〜φ200mm の基板に対応し、モールド設計から、試作、少量生産までを国内で一貫対応。サンプル作製では実際の形状・性能確認の用途にもご活用いただけます。 フォトマスク製造と同等のクリーンルーム環境を整備し、高精度な微細加工を実現します。従来のフォトリソグラフィに比べて工程が簡略化され、コスト削減が可能。導光板やメタサーフェスなどの次世代光学デバイスの量産にも対応し、柔軟かつ迅速な製品化を支援します。