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大塚電子

枚方市招提田近,  大阪府 
Japan
http://www.otsukael.jp
  • 小間番号E5421

”インラインで測定する“ 半導体製造工程の中で、膜厚・粒子径測定技術で提供できる価値を、実際の測定がイメージできる装置を通して、ご覧いただけます。
ぜひ弊社ブースにて実機をお近くでご覧ください。各種資料を取り揃えて、皆様のご来場をお待ちしております。
 


 出展製品

  • 光波動場三次元顕微鏡 MINUK
    MINUKは、nmオーダーの透明な異物・欠陥の評価が可能で、1ショットで高さ方向の情報を取得でき、非破壊・非接触・非侵襲で測定が可能な装置です。 さらにフォーカス不要で、任意の面を高速でスキャンして測定位置を決定することが可能です。...

    • nmオーダーの透明な異物・欠陥の評価が可能
    • 1ショットで瞬時に深さ方向の情報を取得
    • フォーカス不要で高速測定が可能
    • 非破壊・非接触・非侵襲で測定が可能
    • 任意の面を高速でスキャンし測定位置の決定が容易

      従来の顕微鏡の課題

      • 視野が狭く、異物などの場所特定に時間がかかる
      • みたい箇所の深さがわからず、画像を複数枚撮り続けなければ特定できない
      • 目に見えないナノオーダーの変化が検出できない

      MINUKなら!

      MINUK:画像
      置くだけ・非破壊・非接触の3D観察技術
      で物理的なフォーカスが不要なため
      みたい箇所をいつでも観察・測定!

      対象物にレーザーを当てることで、厚みと屈折率の変化によって波面が変化します。
      その変化を波面センサでとらえ、独自のソフトウェア上で数値解析し、像を再生しています。

      MINUK:測定イメージ

      Use Case活用例

      MINUKだから解決できる技術課題をご紹介します

      Features特長

      透明体の​表面および​内部を​高速・簡単に測定できます

      1. 特長01広い視野(700μm)と高い分解能(488nm)で、
        測定対象から異物を探す手間がかからない

        従来は、​視野が​狭いため、​異物などの​場所を​探す際に、​測定対象内を​探し回る​必要が​ありました。
        MINUKは、​試料光を​結像​光学系を​介さずに​直接記録する​ため、​レンズの​収差問題を​根本的に​解決し、​
        大深度・​広視野・無収差の​結像を​実現します。

        測定視野イメージ
      2. 特長02深さ1400μmの全情報を捉え、任意の高さでスライス可能
        1回の測定で数千枚の画像と同等の情報を取得

        従来は​みたい​箇所が​どの​深さに​あるのかわからず、​見つかるまで​数千回もの​画像を​撮り続ける​必要が​ありました。​MINUKは、​700×700μmの​範囲と​深さ方​向1400μmの​情報を​瞬時に​測定します。​約2μmの​分​解能で​約700枚の​スライス像を​取得し、​これらの​情報を​デジタルリフォーカシングする​ことで​三次元構造の​追加検証が​可能です。​

        取得するデータのイメージ図
      3. 特長03透過率や屈折率の三次元分布を可視化し、
        目に見えないナノオーダーの表面形状を数値化

        従来はフォーカスが合わせにくく、定量化できませんでしたが、MINUKは目に見えないナノオーダーの表面形状の定量化が可能。微小な屈折率変化を検出することができます。

        屈折率変化検出イメージ
  • ラインスキャン膜厚計®【オフライン(ウェーハ対応タイプ)】
    半導体の研究開発や生産現場において、ウェーハ基板上の薄膜を全面測定できる装置です。 独自の分光干渉法と新たに開発した高精度膜厚演算処理技術を組み合わせることで、12inchウェーハの面内分布を高速に測定することが可能です。...

    • 1分で面内分布を高速測定
    • 複数膜の2層同時測定が可能
    • ポイント測定では見れない、
    • 細かな凹凸を可視化
    測定原理

    分光膜厚測定のパイオニアだから実現できる高精度測定

  • 顕微分光膜厚計 OPTM series
    顕微分光を用いた微小領域での絶対反射率測定により、高精度な膜厚・光学定数解析が可能な装置です。 各種フィルムやウェーハ、光学材料などのコーティング膜の厚みや多層膜を非破壊・非接触で測定できます。測定時間は1秒/ポイントの高速測定が可能です。また初めての方でも簡単に光学定数の解析ができるソフトウェアを搭載しています。...

    • 膜厚測定に必要な機能をヘッド部に集約
    • 顕微分光で高精度な絶対反射率測定(多層膜厚、光学定数)
    • 1ポイント1秒以内の高速測定
    • 顕微下で広い測定波長範囲を実現する光学系(紫外~近赤外)
    • エリアセンサーによる安全機構
    • 初めての方でも光学定数解析が可能な楽々解析ウイザード
    • 測定シーケンスをカスタマイズ可能なマクロ機能搭載
    • 複雑な光学定数も解析可能(複数点解析法)
    • 300mmステージ対応可能
    • 各種カスタマイズに対応
       

      試料の形状・部位に応じて容易に測定シーケンスをカスタマイズ可能

      試料の形状・部位に応じて容易に測定シーケンスをカスタマイズ可能

       

      測定項目

      測定項目
    • 絶対反射率測定反射率
    • 光学定数解析(n:屈折率、k:消衰係数)
  • 分光干渉式ウェーハ厚み計 SF-3
    ウェーハ等の研削研磨プロセスにおいて、非接触でウェーハや樹脂の厚みを超高速・高精度に測定を行います。...

    • 光学式により非接触・非破壊での厚み測定が可能
    • 高い測定再現性を実現
    • 高速でリアルタイムに研磨モニタが可能
    • 長いWD(ワークディスタンス)を実現し、機器への組み込みが容易
    • ホスト機器からLANを使用したTCP/IP通信で制御
    • 多層厚み測定が可能
    • テンポラリーウェーハ(仮貼り合わせウェーハ)の各層厚み測定が可能

    5つの特長

    測定項目
    • 厚み測定(5層)

    用途
    • 各種ウェーハ(Silicon、その他化合物ウェーハ)厚み測定
    • 各種 研削・研磨・貼り合わせなどへのプロセスへの組み込み
    • ウェーハ以外の厚膜部材厚み測定

    半導体プロセスへの組み込み例
    ■ テンポラリーボンディング

    ■ バックグラインド

    バックグラインドトレンドグラフ

    ■ ウェットエッチング

    ■ CMPプロセス

  • スマート膜厚計 SM-100 series
    高精度で持ち運び可能な膜厚計 ​ 「測りたい“その場”ですぐに測れない」 「人によってバラつく測定結果」 「測定精度が悪い」 膜厚を測定するときに、このような経験はありませんか?スマート膜厚計は下記のような特徴があり、皆様のお困りごとを解決します。 ・ 生産現場に持っていけるハンディタイプ ・ 簡単だから誰でも使える ・ ハンディタイプでも高精度な測定が可能 ・ 形状のあるサンプルも非破壊で測定が可能...

  • 特 長
    • 「持ち運び可能なハンディタイプ」1.1 kgと軽く、持ち運びも簡単
    • 「高精度測定&簡単測定」最薄0.1 μmまで検量線不要で測定可能
    • 「多層膜も対応」3層までの多層膜を測定可能
    • 「非破壊・非接触測定」サンプルを傷つけることもなく測定可能
    • 「様々なサンプルを測定」基材(ガラス・プラスチック)を選ばず測定可能