本研究室では次世代半導体デバイス用の材料開発に関する研究を進めています。特に本研究室オリジナルの「光電子制御プラズマCVD」を用いた炭素材料合成や、放射光を用いたSi熱酸化プロセスのメカニズム解明など、材料合成と評価の両方で精力的に研究を進めています。 ブースではこれまでの研究成果をまとめたポスターや、成膜試料のデモ展示を行います。