半導体製造プロセスにおけるパーティクル計測課題に豊富な製品力で対応いたします。
最先端の半導体製造プロセスでは、微細化の進歩とともに「シングルナノ」がキーワードとなっています。
パーティクルによるコンタミもシングルナノレベルでの管理が求められるため、デバイスメーカーやファウンドリはもちろん、半導体製造装置メーカー、洗浄液・プロセスガスやそれら供給システムを構成する各種部品メーカーも、より高いレベルでのコンタミ低減に注力しています。
当社が有する計測装置群は、シングルナノパーティクル計測課題への有力なソリューションとしてご利用頂けます。
当社展示ブースでは、液中のナノ粒子計測や製造装置のコンタミ評価に適した、シングルナノサイズパーティクルの粒径・個数計測・分級抽出が可能な計測器『SMPSシリーズ』（実機）や、グリーン水素用CCMs、ガスセンサー、電気触媒などの製造に利用可能な卓上型金属ナノ粒子生成装置『VSP-G1』（実機）を展示いたします。
その他、卓上型金属ナノ粒子生成装置を組み合わせた、ナノ構造の多孔質層を自動で成膜するナノ粒子プリンター『VSP-P1』（模型）を展示いたします。
パーティクル計測に関するご相談などございましたら、お気軽にご来訪・お問合せください。
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パーティクル計測装置
シングルナノサイズ対応ナノ粒径測定 SMPS3938シリーズ (TSI社：アメリカ)
DMAとCPCの自由選択で構成される走査式ナノ粒子粒径分布計測器
- 微分型電気移動度法(DMA法)を用いた高粒径分解能計測。
- シングルナノ粒径の計測に対応 (1.1 ～ 1000 nm)。
- 任意粒径パーティクルの抽出が可能。
- 噴霧乾燥法と組合せて湿式計測に適用可能。計測対象はCMPスラリ、IPA、過酸化水素水、超純水など。
商品紹介URL：https://www.t-dylec.net/service/smps3938/
ナノ粒子サンプラー
スポットサンプラーシリーズ (ADI社：アメリカ)
ナノ粒子を集中的に捕集サンプリング
- 粒子の跳ね返りもなく、高い捕集効率。
①5 nm～2.5 μmのドライ捕集 >95 % ②5 nm～10 μmの液中捕集 >90 %
- 新しい3段式の凝縮成長技術に気流の加熱を最小限にすることで、揮発性成分の損失を最小化。
- サンプリング設定は1分～24時間で連続サンプリングが可能。
- 濃縮サンプルの少量抽出により、分析感度を向上（検出限界/定量下限）可能。
商品紹介URL：https://www.t-dylec.net/service/series110a/
ナノ粒子プリンター
VSP-P1 (vsParticle社：オランダ)
ドライプロセスにより、様々な材料のナノ多孔質膜を自動プリント
- ドライプロセスによりナノ粒子を内部生成 (1 nm～)
- 任意の材質。合金や酸化物も生成可能
- 生成後のナノ粒子を基材にプリント
- 層の幅／厚さ／多孔度を制御可能
商品紹介URL：https://www.t-dylec.net/service/vsp-p1/