伯東

Pfeiffer Vacuum社の真空ポンプは、
半導体製造工程におけるクリーンかつ安定した真空環境を実現します。

主力製品であるターボ分子ポンプ（Turbo Molecular Pump）は
高速回転による優れた排気性能と極めて低い振動特性を両立しています。
リソグラフィ、エッチング、CVD、PVDなど、ナノメートル精度が
求められる工程でも確実に安定した真空を提供します。

また、最新モデルでは磁気浮上方式やハイブリッドベアリング方式を採用し、
粒子発生リスクを最小限に抑制、メンテナンス頻度の低減と長寿命化を
実現しています。

さらに、ルーツポンプ（Roots Pump）やドライポンプ（Dry Pump）との
最適な組み合わせにより、プロセス全体の効率化とクリーンルーム内の環境
維持をサポートします。これにより、ウェーハ処理から検査工程まで、
要求される真空レベルやガス種に応じた柔軟なシステム構成が可能です。

Pfeiffer Vacuumの真空ソリューションは、

• 高信頼性

• 低振動・低騒音設計

• 優れた耐食・耐ガス性能
  を兼ね備え、次世代半導体製造ラインにも対応します。

また、弊社は日本国内にサービス拠点を設けており、
定期オーバーホールや緊急対応などのアフターサービス体制も万全です。
これにより、海外製品でありながら、導入後も安心して長期運用いただけます。

APA 302は、クリーンルーム環境での高度なデバイス製造のための独自のインライン監視ツールです。(※画像左)
この革新的な装置は、FOUPおよび周辺環境における空気中の分子汚染（AMC）を測定します。
測定はppbvレンジの高感度で、リアルタイムに行われます。測定時間は2分/FOUPです。測定成分は、ご希望の測定成分に合わせて選択いただくことが可能で、アナライザーをAPA筐体内に収納します。

• 有機・無機問わず、非常に高感度な測定が可能
• リアルタイム測定が可能
• スループット：1時間あたり16個以上にFOUP測定が可能（OHTを使用）
• SEMI規格およびSECS/GEMへの準拠

ADPC 302は、ウェーハ製造プロセスの品質管理を大幅に改善するための理想的なインラインシステムです。(※画像中央)
この装置は、FOUPまたはFOSBのドア部を含む内面(計6面)に対して、パーティクルの付着場所を特定し、 粒径ごとのパーティクルの個数を自動で測定します。
測定時間はわずか7分です。 

• 0.1µm~5µmの各粒径のパーティクル個数を検出可能
  ※オプションで10nmパーティクルカウンターの搭載も可能
• スループット：レシピに応じて、1時間当たり8~14個のFOUP/FOSB測定可能（OHTを使用）
• SEMI規格およびSECS/GEMへの準拠

AMPCは、クリーンルームおよび装置EFEM内の環境を制御するための革新的な監視ツールです。(※画像右)
この装置はクリーンルーム環境および装置EFEMにおける空気中の分子汚染（AMC）を測定します。
測定は、ppbvレンジの高感度で、リアルタイムに行われます。測定時間は約4分/FOUPです。測定したい成分は、APA302と同様に、ご希望の測定成分に合わせてアナライザーを選択いただくことが可能です。

• 16~128ラインまで、最長200m測定ラインに対応した自動システム
• リアルタイム測定が可能
• 検出限界に応じて、わずか4分で分析とクリーニングを完了
• 有機化合物と無機化合物の高感度な測定に対応

※FOUP：Front Opening Unified Pod
※FOSB：Front Opening Shipping Box
※AMC：Airborne Molecular Contaminants
※OHT：Overhead Hoist Transportation
 

SIRD特徴：

✓ 　ウェーハの内部応力可視化により、～300㎜ウェーハの応力観察が容易

✓　測定時間は6 枚/h @300㎜（標準レシピ）

✓　面内不良面積比の算出機能を有し、品質管理に最適

✓　SECS-GEM に準拠したシステム提供も可能な為、量産用途の使用も可能

アプリケーション例：

●グラインディング工程
●RTA 等の熱プロセス
●エピタキシャル成長プロセス
●エッジディフェクトを含めた品質検査

SiC用の新型機を本展示会にてポスターで展示いたします。

皆様のご来場をお待ち申し上げます。