当社は創業100年の歴史を持つ化学メーカーとして、PGMEA をはじめとする低メタル溶剤、半導体フォトレジスト用ポリマー、高耐熱・高絶縁エポキシ材料、そして PFASフリー離型フィルムなど、半導体製造プロセスを支える多様な機能性材料を提供しています。
長年の技術蓄積と厳格な品質管理を強みに、次世代デバイス開発に貢献しています。
詳しい製品情報につきましては、当社ホームページをご覧ください。
今回の展示会では、下記の製品を紹介しています。
【半導体フォトレジスト用ポリマー】
当社は、ArFや最先端のEUV世代のフォトレジスト用ポリマーを製造しています。
本展示会では半導体製造用クリーナー（異物除去、異物の再付着防止）もご紹介します。
【先端半導体用高沸点溶剤】
半導体製造に欠かせない、PGMEAをはじめとする高品質な、高沸点かつ低メタル溶剤をご紹介します。
国内一貫製造により、安定した品質の溶剤を安定供給しています。
【CELTOL®】
歩留まり改善、デバイスの性能向上を目的に開発した高沸点溶剤です。
積層セラミックコンデンサ（MLCC）製造などに採用されています。
【高絶縁性を兼ね備えたエポキシ】
当社のエポキシ絶縁材料は、高耐熱・高密着・高絶縁性を兼ね備えており、絶縁・保護用エポキシ含浸材として幅広い用途でご使用いただけます。
パワーモジュールや銅線被覆など、厳しい環境下でも高い信頼性を発揮します。
【PFAS対応（フッ素非含有） 離型フィルム】
当社のPFASフリー離型フィルムは、ETFEと同等の成形条件で使用でき、エポキシ樹脂に対して優れた離型性を発揮します。非フッ素・非シリコーンで汚染リスクが低く、有機溶剤にも高い耐性を備えています。