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信越化学工業

Chiyoda-ku,  Tokyo 
Japan
https://www.shinetsu-microtech.jp/
  • 小間番号E6519


レーザと材料で『後工程』の工程を革新します。 ①最先端パッケージ基板製造工程(信越デュアルダマシン法) ②高速チップ実装工程

当社は材料技術の枠組みを超えて、独自の素材技術と装置技術を融合させる取り組みを行っており、新たな製造プロセスを開発することで、装置と材料の両面からトータルソリューションを提案します。

① 最先端パッケージ基板製造装置の特長

・半導体前工程で用いられるデュアルダマシン工法を後工程用パッケージ基板に応用(信越デュアルダマシン法)

・エキシマレーザによる絶縁層(非感光性材料を含む)のアブレーション加工

・パッケージ基板および再配線層(RDL)製造におけるSAP(フォトレジストプロセス)の代替工法

・インターポーザーと同様の機能を有した配線パターンを直接パッケージ基板およびRDLに高速加工・形成可能

・超微細な配線パターン、極小ビア加工が可能

② 超高速チップ実装機(レーザトランスファー)の特長

・微小形状(5 x 5μm)及び薄厚(t=1μm)チップ実装可能

・超高速(100個~1,000個/秒)実装可能

・突き上げピンによる接触無く、ウエハー あるいは COCから直接実装可能

③ レーザ移載に最適化した新アブレーション材料の特長

・低温でのウエハー貼り合わせが可能(反り対応)

・後工程を考慮し、容易に残渣除去可能

・LLOプロセス(248nmレーザ)において、広いプロセスウィンドウが可能


 出展製品

  • 半導体パッケージ基板加工装置(信越デュアルダマシン法)
    半導体の高性能化をコスト低減の面から支える技術として、回路を個片化して一つの半導体パッケージに収める「チップレット」が注目を集めています。先端半導体パッケージのチップレット間の接続には主にシリコンインターポーザーが使用されていますが、半導体パッケージの大型化や歩留、コストに課題を抱えています。...

  • 信越化学ではアブレーション加工によって、有機絶縁層に微細な電気回路パターンを掘り込むエキシマレーザー装置を開発しました。これにより、シリコンインターポーザーでしか達成できなかった微細配線や極小ビアを半導体パッケージ基板、再配線層(RDL)、有機インターポーザーなどに形成することができます。
  • レーザーを使用した超高速チップ実装装置
    マイクロLEDをはじめとして、チップの微細化(軽薄短小)が目覚ましい勢いで進行しています。加えて、AI・サーバーの普及で電子機器に使用されるチップ数も劇的に増加しており、当社はマイクロLEDで培ったユニークな技術を応用して実装革新を行います。 ...

  • チップの微細化に伴い、従来までの真空吸着ノスルでは対応出来ず、且つチップPick up pinではダメージが入るという大きな問題が直面しているとの生産現場の声をフォーカスし、マイクロLED量産プロセスで使用しているレーザートランスファー技術をSMT業界に展開しました。1秒間で数千個実装可能なケースも有り、CoW(Chip on Wafer)やパネル向け量産現場には最適で、省スペースな設置場所に省人数対応出来る近代型実装空間を創作可能です。また素材・材料会社という本業の特長を活かし、リリース&キャッチ材料の新規開発・提案も前向きに対応しています。次世代実装と言われているレーザーを使用した超最先端実装空間を是非ご堪能下さい。