ICP-MSといえばAgilent
超微量元素分析で半導体業界を支えています
●Agilnt × 超微量分析
アジレントのICP-MSはウェハやレジストや各種材料中の超微量元素を分析する手法として、半導体業界で広く採用いだだいています。今や微細化、歩留まり向上の必須ツールとなりつつあります。
特にトリプル四重極ICP-MS（ICP-QQQ)は、最高スペックのICP-MSであり、ppt(ng/L)あるいはそれを下回る領域の分析を可能にします。
●Agilent × 自動化
社会の変化によって分析にも自動化が求められています。自動化ソリューションとして、サンプリング、希釈調製やレポートなど各種工程の自動化のご提案が可能です*。
●Agilent × ナノ粒子
spICP-MSと呼ばれる手法によって、10～100 nmオーダーのナノ粒子の定量が可能です。当手法はパーティクルの構成元素ごとに粒子径、粒子濃度が分析できることが最大の特長です。
●Agilent × LA-ICP-MS(レーザーアブレーション）
LA-ICP-MSと呼ばれる分析手法を用いて、ウェハなどの固体試料の直接分析が可能になります*。ICP-MSを用いることで軽元素を含めた高感度分析ができることを特長としています。また、マッピング分析も可能にします。
●Agilnt × 元素分析各種製品
上述したICP-OESの他にもICP-OES、原子吸光などの各種元素分析装置もご提案をしております。ICP-OESはメッキ液などの高濃度試料を分析する際に好まれる分析手法です。
*自動化、LA-ICP-MSソリューションはパートナー企業とのコラボレーション提案となります