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プラズマ・サーモ・ジャパン

横浜市,  神奈川県 
Japan
https://mono.ipros.com/company/detail/2099167/
  • 小間番号W3231

セミコンジャパンへようこそ—プラズマ・サーモの革新技術をご覧ください!

1974年に設立されたPlasma-Therm社は、高度なプラズマ処理装置の世界的なメーカーであり、ワイヤレス通信、パワーデバイス、MEMS、フォトニクス、先端パッケージング、メモリ・ストレージ、研究開発をはじめとする半導体市場にエッチング、成膜技術、熱処理、プラズマダイシング技術を提供しています。Plasma-Therm社の製品は世界中で採用され、高付加価値、信頼性、ワールドワイドなサポートで高い評価を得ています。また、北米、欧州、アジア太平洋地域に販売・サービス拠点を置き、グローバルかつ多様な顧客ニーズに対応しています。

クラスターツール: https://www.plasmatherm.com   ノン・クラスターツール: https://corial.plasmatherm.com/en

また、以下が各個別製品の概要とリンクとなります。更にご質問等がある際には、ブースに商談席を準備しておりますので、是非、お越しください。

◆ クラスターツールラインアップ

  • VERSALINE® : ICP, DSE, RIE, PECVD, HDPCVD
  • LAPECVD™ : ラージエリアPECVD装置
  • KOBUS FAST: 高速ALDライク成膜装置 - ALD膜質成膜をPECVD成膜速度がコンセプト。
  • QuaZar™ : イオンビーム・エッチング・成膜装置 - LiTaO3, LiNbO3, AiScNの傾斜角度制御、側壁粗さ制御が注目ポイント。
  • Mask Etcher: フォトマスク・エッチング装置
  • ODYSSEY HDRF : プラズマフォトレジスト - 有機ポリマー除去、ボッシュプロセス後のスムーズイング。特に低温処理が注目ポイント。
  • Singulator™ : テープ式プラズマ・ダイシング装置

◆ ノン・クラスターツールラインアップ

  • Vision™ : RIE, PECVD  - サンプル手置きタイプのベーシックモデル。
  • Shuttleline: RIE, ICP, PECVD, ICP-CVD - R&D向け幅広い用途に使用可。カスタマイズも対応。フォトマスクエッチング可。
  • Takachi: RIE, ICP, PECVD, ICP-CVD - クライオ温度プロセス対応。
  • Kayen HDRF™: プラズマフォトレジスト - 有機ポリマー除去、ボッシュプロセス後のスムーズィング。高密度ラジカルプロセスによる低ダメージ低温処理。
  • PlasmaPOD: 卓上型エッチング・成膜装置
  • Heatpulse: ランプ・アニーリング装置 -  既存装置向け、入手不可部品を刷新したCortexアップグレード準備中。
  • Tegal : RIE装置- 弊社標準ソフトウェア - Cortex搭載モデル販売開始。
  • Endeavor : PVD装置
  • Eclipse : PVD装置
  • TFE: バッチ式インラインPVD装置 - R&D用途のITO成膜装置出荷いたしました。