Vistec SB254 は、最先端の研究および産業界で使用される ことを目的とした、完全自動化された高性能でコストパフォ ーマンスの高い電子ビーム描画装置です。ウェハやマスク基 板の最大 200mmの範囲へナノパターンを書き込むことがで き、R&Dや試作、小規模生産などの幅広い用途に対応しま す。 可変成形ビーム方式と最適化された露光手順により、 高いパターン再現性で効率的かつ描画時間を最適化した電 ビーム描画を実現します。さらに、セルプロジェクション技 術により、同じパターンの繰り返しや曲線的なパターンでの 生産性とパターン再現性がさらに向上します。