Nanoimprint Lithography Solutions
SCIL Nanoimprint Solutionsは、大径（大型）ウェーハ上にナノ構造を形成するための量産対応ナノインプリント技術をご提供します。レンズ、レーザー、導波路、LED、3Dセンサーなどの製造において、性能向上、製品コストの削減、機能性の強化を実現します。当社独自のインプリントリソグラフィ技術（SCIL）は、10nm未満の微細パターン形成と1µm以下の高精度アライメントを両立。量産用途においても高い再現性と生産性が実証されており、次世代光学・半導体デバイスの製造に最適なソリューションをご提供します。
SCIL Nanoimprint Solutions offers solutions for patterning nano-structures on large wafers by using its unique and proprietary lithography technology (SCIL).
SCIL or Substrate Conformal Imprint Lithography is a cost effective, robust, high yield process enabling nanometer resolution patterns on a large variety of materials. SCIL delivers proven, high quality imprints on wafer areas up to 300 mm. It can be used to make patterns with feature sizes down to less than 10 nm and overlay alignment of 300 nm. Overlay alignment down to 100nm is on the development roadmap.
SCIL Nanoimprint Solutions helps customers with optimized equipment consumable materials and processes for high volume production. Our solutions enable semicon manufacturers to increase performance, lower end-product costs and increase functionality.