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東京科学大学 大見研究室

横浜市,  神奈川県 
Japan
http://www.sdm.ee.e.titech.ac.jp/
  • 小間番号E6826

高誘電率薄膜、強誘電体薄膜などの機能性誘電体薄膜を用いた新構造デバイスの研究

 大見研究室では、近年の情報通信システムに必要不可欠な不揮発性メモリの高性能化を目的として、
高機能誘電体薄膜を活用した低消費電力不揮発性メモリの研究を推進しています。ハフニウム系高
誘電率薄膜を用いたフラッシュメモリやハフニウム系強誘電体薄膜を用いた強誘電体メモリなどの
最新の成果を紹介します。