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オランダに本社を置くASMは、原子層堆積を牽引するリーダーとして知られています。
先進的なウェハ処理装置で最先端半導体メーカーを支えることにより、次世代マイクロチップの実現を可能にします。私たちは薄膜堆積の熟練技術を通じて、明日のテクノロジーの核となる素材を形作る革新的装置やソリューションを生み出しています。またAI、次世代ヘルスケアからクラウドコンピューティング、またスマートでよりエネルギー効率の高いデバイスに至るまで、あらゆるものを支えています。
ASMは半世紀以上にわたり、アジア・ヨーロッパ・アメリカにまたがる、4600名もの才能あふれるプロフェッショナルを擁するグローバルチームへと成長してきました。日本では1982年に設立され、多摩と川崎に研究開発センターそして全国に営業とサービスチームを置き、7つのオフィスに380名以上の従業員を擁しています。
私たちは55%以上の市場シェアで原子層堆積(ALD)を牽引しています。シリコンエピタキシー(Epi)においても成長し続けており、プラズマ励起化学気相堆積(PECVD)と縦型炉においてはニッチな地位を占めています。
デバイスの小型化、複雑化が増すにつれて、各単分子層は性能と信頼性において重要になります。ALDの自己制御反応は精密な化学量論制御と3D構造に対する比類のない適合性を実現します。ASMの高生産性プラットフォームはサーマルALDとPEALDのための幅広いシステムを提供し、卓越した制御で低温アプリケーションにプラズマを使用しています。
これにより、欠陥を最小限に抑えることができ、優れた導電性、高性能が実現します。ウェハの電気的特性を改善することで、高度なマイクロプロセッサやメモリデバイスに最適となります。