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堀場アドバンスドテクノ

京都市南区吉祥院宮の東町,  京都府 
Japan
http://www.horiba.com/jp/horiba-advanced-techno/home/
  • 小間番号S1403

分析×制御でつくる、持続可能な未来

HORIBAは、持続可能な社会の実現に向けた、先端材料・半導体分野への革新的なソリューションを提案しています。半導体製造プロセスにおける制御とモニタリングを中心として、先端材料の研究開発の最先端ソリューションの提供から、排ガスや廃液監視などのファシリティの管理に至るまで、多彩なアプリケーションでお客様のオペレーションをサポートします。


 出展製品

  • 薬液モニタリングシステム CS-1000
    独立設置型の薬液モニタリングシステム「CS-1000」では、半導体製造プロセスで用いられる薬液に含まれるppmレベルの微量成分を、前処理なしで検出することを実現しました。また、薬液濃度(最大8成分)、導電率、pHという3項目の同時測定を可能とし、品質管理の高度化に貢献します。さらに、メンテナンス時間・頻度の削減に配慮し、製造現場のダウンタイム低減にも寄与します。...

  • 1. 微量成分を含む多成分薬液の連続モニタリング
    吸光度※1、導電率、pHのデータを複合的に分析する独自アルゴリズム(特許出願済み※2)を確立。これにより、薬液の分離や試薬の添加といった前処理を必要とせず、多成分薬液中のppmレベルの微量成分を検出するとともに、濃度(最大8成分)、導電率、pHという薬液管理における主要3項目を最短6秒※3の更新周期で同時測定することを実現しました。
    広い波長域(MUV~Vis~NIR※4)に対応した吸光光度計をはじめとする各種センサーから、ソフトウェア、それらを統合したシステムに至るまでの全てを自社開発した背景には、お客様に寄り添い、声を聴くことで積み重ねた技術革新があり、精密性と迅速性を両立した業界最高水準※5の機能を創出することができました。
     

    2.効率化の徹底追求
    ユーザーによるメンテナンスは半年に一度、約4時間※6で済ませることができます。また、pHを除く測定には試薬を必要とせず、ダウンタイムやランニングコストの低減に貢献します。さらに、完全分離型の薬液2流路設計により、異なる2種の薬液の同時測定にも対応しており、生産性向上にも寄与します。
     

    3.製造現場にマッチした最適モデル
    独立したキャビネットに集約されたオールインワンシステムは、製造現場に設置するだけでお使いいただけます。また、タッチパネルの採用により、簡便な現場操作を実現しました。


    ※1 液体に照射した光が吸収される度合い。薬液の種類やその濃度によって固有の波長で光が吸収されるため、吸光度の測定によって薬液の濃度を導き出すことができる
    ※2 日本、アメリカ、韓国、台湾:特許出願済み
    ※3 測定時間は使用方法や条件によって異なる場合があります
    ※4 MUV:Middle UVの略、中紫外光域を示す。Vis:Visibleの略、可視光域を示す。NIR:Near Infraredの略、近赤外光域を示す
    ※5 当社調べ(2024年11月時点)
    ※6 所要時間は使用方法や条件によって異なる場合があります

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