株式会社エイチ・ティー・エルの出展ブースにぜひお立ち寄りください。
●フォトマスク用座標測定装置、欠陥検査装置 － ブイ・テクノロジー社製品
LSI:レジストレーション測定装置、外観検査装置、欠陥修正装置、マスクライター（2nd layer）
FPD:精密座標測定装置、FIB欠陥修正装置、欠陥修正装置、外観検査装置
●ウェーハRTPアニール装置 LEVO6000 － Levitech社製品
次世代RTP(Rapid Thermal Processing)システム
●フォトマスク静電気測定装置 ー Estion社製品
E-RETICLEは、フォトマスクの製造工程中に発生する静電気をリアルタイムで測定するインライン静電気測定システムです。
従来の測定方法では難しかった、製造プロセス中の静電気の蓄積や放電のリスクを可視化します。
・リアルタイム測定：マスク表面の4つの異なる領域の電位差を測定し、静電気のリスクが高い箇所を特定します。
・データ記録と分析：内臓のリアルタイムクロックとメモリ、WLAN接続機能により、測定データを蓄積し、専用ソフトウェアで詳細な分析が可能です。
・SMIF互換ドッキングステーション：自動化された製造プロセスに組み込むことができ、実際のフォトマスクと同様の条件で測定が可能。
・携帯型オプション：エンジニアリングや研究開発用途向けに、ポータブルタイプのドッキングステーションも用意されています。
●卓上型サーマル式 / プラズマ支援 原子層堆積装置（ALD / PEALD) － Arradiance社製品
テーブルトップのコンパクトサイズながら原子レベルレイヤーの成膜が可能
カーボンナノチューブ（CNT）やグラフェン、粉体にも成膜可能。
●簡易型熱・UVナノインプリント装置CNIツール － NIL Technology社装品
簡易型でデスクトップタイプの熱・UVインプリント装置。8”（インチ）までのモールドとインプリント材料投入が可能
●ナノインプリント用フォトレジスト － micro resist technology社製品
高機能ポリマー&レジスト
マイクロエレクトロニクス、半導体・電子デバイス、 MEMS用