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半導体プロセス・デバイスに関する研究・教育をおこなっています。全く新しい原理に基づいた温度計測法を是非ご覧ください。
光学干渉を利用した高精度非接触温度測定技術（Optical Interference Contactless Thermometry :OICT）の展示をおこないます。OICTはレーザー光を用いてウエハ裏面から表面温度をリアルタイム計測する技術です。プラズマプロセス中のウエハ表面温度モニタリング、パワーデバイス動作時の自己発熱温度計測、積層構造における界面熱抵抗の計測、等に幅広く応用可能です。
OICTはウエハ内部におけるレーザー光の多重反射と干渉を利用した非接触温度測定法です。シリコンウエハの場合、-200℃～450℃の範囲をミリ秒時間分解能、0.1℃の温度分解能で計測可能です。
ブースではランプ加熱中のシリコンウエハ温度を非接触温度測定するデモンストレーションをおこなう予定です。