菱光社

品川区, 東京都
Japan
https://www.ryokosha.co.jp/

小間番号E5922

ウェハレベルでの検査、測定に関する製品をご案内しております。

先端後工程向けフルパネル搬送システムの紹介をしております。

その他、自動外観検査装置などを紹介しております。

Categories

203 装置、検査及び測定 / Inspection & Measurement Products

ウェーハ：基板測定/トポロジ/ナノトポグラフィ/平坦度測定/結晶方位 / Wafer; Substrate Metrology; Topology; Nanotopography; Flatness Measurement; Crystalline Orientation

ライン幅：クリテカル寸法（CD)測定 / Line Width; Critical Dimension (CD) Measurement

欠陥/パーテクル/バンプ/汚染検出、評価、検査 / Defect; Particle; Bump; Contamination Detection, Review or Inspection

測定器/ベンチトップテスト / Instruments; Bench Top Test

膜厚：厚さ/均一性測定/エリプソメーター / Film Thickness; Thickness; Uniformity Measurement; Ellipsometer

表面測定 / Overlay Measurement

顕微鏡：光学顕微鏡 / Microscopes: Optical Microscopes

顕微鏡：共焦点走査型顕微鏡；3-Dビデオ顕微鏡 / Microscopes: Confocal Scanning Microscope; 3-D Video Microscopes

顕微鏡：原子間力顕微鏡（AFM) / Microscopes: Atomic Force Microscopes (AFM)

顕微鏡：走査型電子顕微鏡（SEM)/集束イオンビーム/透過型電子顕微鏡（TEM) / Microscopes: SEM; Focused Ion Beam (FIB), TEM

207 装置、プロセス / Process Equipment

ウェーハ、レチクル、FPD搬送システム / Transfer Systems for Wafer; Reticles or FPD's

エッチング/ストリッッピング/アッシング-ドライ及びウェット装置 / Etching; Stripping; Ashing - Dry and Wet Equipment

リソグラフィ；露光/アライナ/直接描画装置/ステッパ/スキャナ/ナノインプリント / Lithography; Exposure; Aligners; Direct Write Systems; Steppers; Scanners; Nanoimprint

502 マテリアルハンドリングシステム / Material Handling Systems

搬送；マテリアルハンドリングシステム / Conveying; Material Handling Systems

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