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Sealink

ソウル, 
Korea (South)
http://www.esealink.com
  • 小間番号E4627


Diffusion Furnace用 R軸を設計生産している。 磁性流体シールを完璧に代替する製品。

シーリンクは半導体 Diffusion Furnace用 R軸を設計生産している。 磁性流体シールを完璧に代替する製品。 磁性流体シールより高い温度で使用でき、毒性ガスと反応しない。
シーリンク(Sealink Corp.)では、様々な領域で取り付けられる標準的なシーリングのみならず、顧客のニーズに合わせたカスタマイズシーリングをご提供いたします。従来のメカニカルシールと磁性流体シールを画期的に改善し、高真空・高圧力の条件にも適用できます。シーリンクはISO 9001/ISO 14001認証を取得するなど、厳しい品質管理体制に取り組んでおり、時代の変化に対応するための開発も行っております。(例:IoTシステムの開発)

今回、 2019 SEMICON JAPANには上記のシーリンクだけのシーリングをお持ちいたします。メカニカルシール、ロータリーフィードスルー、ロータリー&リニアフィードスルー、ロータリーユニオンなど、標準規格に合わせたものから注文制作されがものまで。多様な製品をお見せ致します。


 出展製品

  • Furnace R-Axis
    We design and manufacture High-vacuum rotary shaft seals for semiconductor equipment. We solve problems with existing products by replacing magnetic fluid seals with innovative and nonlinear contact seals with new advanced high technologies....

  • Sealink is Design and produce R-axis for diffusion furnace, completely replacing magnetic fluid seals.

    Sealink designs and produces the R axis for semiconductor diffusion furnaces. It completely replaces the magnetic fluid yarn. It can be used at higher temperatures than the magnetic fluid yarn and does not react with toxic gases. Its applications are furnace, CVD, ALD, implant, etchter, sputter, CMP, and autoclave.

    Japanese equipment is used in the semiconductor deposition nitride process used by Company S, and at this time, it is a high vacuum R-axis unit to prevent gas from leaking into a gap that rotates when the inside of the equipment rotates.

  • Rotary Union For Sputter Metal Deposition
    Rotary Union For Sputter, SP0326 is a specific part used in "A" sputter systems to facilitate the rotation of components while supplying media like coolant. This part is a component for wafer processing. It is available on various online marketplaces....

  • Design and produce R-axis for diffusion furnace, completely replacing magnetic fluid seals.

    Sealink designs and produces the R axis for semiconductor diffusion furnaces. It completely replaces the magnetic fluid yarn. It can be used at higher temperatures than the magnetic fluid yarn and does not react with toxic gases. Its applications are furnace, CVD, ALD, implant, etchter, sputter, CMP, and autoclave.

    Japanese equipment is used in the semiconductor deposition nitride process used by Company H, and at this time, it is a high vacuum R-axis unit to prevent gas from leaking into a gap that rotates when the inside of the equipment rotates.