日本レーザー

12インチ（300 mm × 300 mm）サンプルに対応 — ウエハや大きめサンプルをそのまま測定可能。

Photo‑induced Force Microscopy (PiFM)／PiF‑IR によるペアの赤外分光＋AFMイメージングで、化学的成分ごとの「化学マップ」と「スペクトル」を自動で生成。

自動アライメント機能つき — 励起レーザーの調整をコンピュータ画面で自動化し、操作の習熟や手間を省き、結果の再現性を確保。

コンパクトな設置面積 — レーザーを本体下に収める設計により、広大なスペースを必要とせず、狭い実験室やクリーンルームにも導入しやすい。

温度・騒音管理された筐体で冷却／防音対応 — アクセスドア設計と遮音・断熱構造により、熱ドリフトを抑えつつクリーン環境下での測定を実現。

白色干渉計＋エリア共焦点（コンフォーカル）技術による3D表面形状／粗さの非接触測定が可能 — 3Dレーザー顕微鏡に匹敵する分解能と精度、再現性を確保。

ヘッド内に演算処理を含むすべての電子機器を内蔵 — 接続は「イーサネットケーブル＋電源」のみで、装置組込みが非常に簡単。

幅90 mm の狭幅コンパクト設計 — 設置スペースを抑え、製造ラインや既存設備にも導入しやすい。

自動 3D 測定機能付き — 焦点合わせ後はワンクリックまたは外部指令で自動測定、照明・焦点・Zレンジを最適化して安定出力。

複数の測定方式（共焦点、白色干渉、Ai焦点移動）を1台に統合した“3‑in‑1”構成 — 様々な材料・表面状態に柔軟に対応。

非常に狭い線幅（≤ 500 kHz）と高スペクトル純度 — 単一周波数 CW 出力で、高分解能・高再現性の測定や加工に適応。

超低ノイズ（出力ノイズ ≤ 0.3 % RMS）かつ高出力安定性（8時間で出力変動 < 2%） — ノイズやドリフトを抑えて、信号対雑音比（S/N）が重要なアプリケーションに最適。J

高品質ビーム (TEM₀₀、M² < 1.2) とコヒーレンス長 > 100 m — 回折限界ビーム品質により、光学顕微鏡、干渉計、リソグラフィーなど高精度光学用途で安定した性能を発揮。 Japan Laser+2Skylark Lasers+2

コンパクトかつ堅牢なモノリシック設計 — 密閉シールドパッケージにより、振動や衝撃に強く、フィールド用途や装置組込みにも対応可能。

広い用途への対応力 — ラマン分光、蛍光/フォトルミネセンス、干渉リソグラフィー、半導体ウェハ検査、量子技術応用など、研究開発から量産支援まで多岐にわたる用途に適合。

従来のAFMの半額以下の価格帯ながら、高分解能でのイメージング品質を実現。

表面形状（トポグラフィ）のほか、位相像、摩擦力（LFM）、磁気力（MFM）、電気力（EFM） など多様な走査モードに対応（モードはオプション含む）。

XY 分解能 0.2 nm、Z 分解能 0.05 nm の高精度走査により、ナノスケールの凹凸・微細パターン観察が可能。

ばね吊り下げ式の振動低減設計により低ノイズを実現。安定した走査によって信頼性の高いデータ取得が可能。

サンプルへのオートアプローチ機能と モジュール設計 によるプローブ交換・メンテナンスの容易さ。初心者でも扱いやすく、運用コストを抑えやすい。

≦ 100 nm 分解能 — ミクロスフィア増幅レンズ（SMAL）を用いることで、通常の光学顕微鏡の回折限界を超えたナノスケールの観察が可能。

非破壊・フルカラ—光学式観察 — 白色光顕微鏡と同様の操作感覚で、前処理不要・サンプルを傷つけずに繰り返し観察可能。

広範囲スキャン & 画像スティッチ — 高精度ステージとソフトウェアにより、広エリアの観察と高解像度画像のタイル連結が可能。大面積ウェハや材料表面の総覧に有効。

多様な対物レンズに対応 — 通常の対物レンズ（10×, 40×, 100×）から超解像 SMAL レンズまで、用途や観察目的に応じて柔軟に選択可能。

簡便な設置／運用性 — 標準的な光学テーブル上で使用可能で、クリーンルーム・真空・特殊環境は不要。既存設備への導入も容易。