SUNWOO ENG. Co., Ltd.

Gwangju-Si,  Gyeonggi-Do 
Korea (South)
http://www.sunwooeng.com
  • Booth: 1354


Welcome to SUNWOO ENG. Co., Ltd.

SUNWOO ENG. Co., Ltd. are conducting business og import and export for the measurement equipments and process monitors related to semiconductor production line and dealing with general environment, pharmaceutical, chemical and materials in the process line.


 Products

  • HALO-RP
    EPI Process Tool , Process & Transfer Chamber 등에 사용되는 GAS내의 Moisture를 실시간으로 분석하는 장비 ...

  • ① Range : 0 - 20 ppm
    ② Lowest Detection Limit : 3.5 ppb
    ③ Sample Gases: H2, N2, Ar, HCl, and others
    ④ Speed of Response (typical): 95% response  <3 minutes

  • HALO Series
    Process & House Gas내의 Moisture를 실시간으로 분석하는 장비 ...

  • ① Range : 0 - 20 ppm
    ② Lowest Detection Limit : 1.5 ppb
    ③ Sample Gases: Most inert, passive, toxic, and corrosive gases
    ④ Speed of Response (typical) : 95% response  <3 minutes

  • HALO-OK
    Process & House Gas내의 Oxygen을 실시간으로 분석하는 장비 ...

  • ① Range : 0 - 2.5 ppm
    ② Lowest Detection Limit : 0.25 ppb
    ③ Sample Gases: Most inert or CO2
    ④ Speed of Response (typical): 5% response  <3 minutes
  • HPS
    클린룸 및 반도체 공정 등에 설치 하여 실시간으로 파티클 계수 및 크기를 측정하는 동시에 파티클 입자를 포집하여 파티클의 성분을 분석할 수 있는 장비 ...

  • ① Range : 0.5 to 10um
    ② Channel Sizes : 0.5,1.0,2.0,5.0 um or 0.5,1.0,5.0,10.0 um
    ③ Flow Rate : 28.3 LPM (1.0 CFM) ±5%
  • WCPC-1003S
    클린룸 및 반도체 공정 등에 설치 하여 실시간으로 Nano(10nm) size의 파티클 계수를 측정하는 장비 ...

  • ① Detection Limit : 10nm
    ② 2.83 L/min (0.1 CFM)
    ③ High Pressure Diffuser to monitor
         High Pressure gas lines (CDA,N2,AR,O2)