BMI CO., LTD.

Yongin, Gyeonggi-do
Korea (South)
http://www.bmi-int.kr

Booth: D930

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Better Innovative Solutions with BMI Co.,LTD

BMI Co., LTD, is a distributor of key manufacturer, manages parts and tools for Semiconductors and TFT/LCD, even Solar cell industries.

Here are product line as follows

Piezocon Sensor, GAS Mixing System(GMS) and APEX from Veeco Flow Technologies, Oxide wafer and SOI wafers from KST, CMP and Chemical Filter products from MYCROPORE, Silicon Injector and Boat products from SICO.

These products are giving you higher performance on your production.

Products

Piezocon Sensor

Piezocon Sensor는 CVD 및 MOCVD 공정에서 사용되는 Process gas와 Chemical source의 공급량을 조절하여 Process chamber 내 Molecular 양을 일정하게 공급 유지하게 함으로써 향상된 수율을 제공합니다.... More Info Less Info

CVD 및 MOCVD 공정에서 Piezocon Sensor는 Process Gas와 Precursor chemical의 정확한 농도 모니터링을 기반으로
우수한 재현성과 정밀하게 Gas 공급량을 제어 할 수 있어 반도체 업계에서 표준 센서로 사용되고 있습니다.
Piezocon Sensor는 전 세계적으로 5,000대 이상의 설치 및 사용을 통해 아래와 같은 검증된 기능을 제공합니다.

Process Gas 와 Precursor chemical의 공급량을 정밀하게 제어하여 공정 재현성 향상 및 수율 증가
Precursor Chemical의 농도에 따라 Chemical 사용량을 효과적으로 관리하여 생산비용이 절감되는 효과 발생
장비 및 공정 엔지니어에게 유용한 정보를 실시간 제공하여 Wafer to Wafer, Tool to Tool Matching을 가능 하도록 함
Piezocon Sensor UI에 내장된 진단 시스템를 사용하여 Process Gas 와 Precursor chemical의 공급 오작동시 문제 해결 지원

번호 (No)	설명 (Description)	사양 (Specification)
1	Range of Concentration	0% to 100% (binary mixture)
2	Repeatability of Measurement	0.0007% FS 1s for TMIn/H2, 0.7%conc @250torr
3	Sensor to Sensor Reproducibility	0.0021% FS for TMIn/H2, 0.7%conc @250torr
4	Accuracy of Measurement	0.005% FS for TMIn/H2, 0.7%conc @250torr
5	Maximum Operating Pressure	8000 torr (150 psia.)
6	Minimum Operating Pressure	Low Pressure Sensor 50 torr (dependent upon gas mixture specific)
7	Range of Flow Rates	0 - 3lpm, 1- 15lpm, 10 - 50lpm, 20 - 100lpm
8	Temperature Range Sensor	0℃ - 60℃, 0℃ - 100℃ (special)
9	Temperature Range Controller	0℃ - 40℃.
10	Pressure Connections	Standard VCR male (Cajon®)
11	Leakage to Atmosphere	<1x10-9 cc/sec of He
12	VCR face-to-face dimension	124mm (4.88”)
13	Weight (Sensor)	1.3Kg.
14	Weight (Electronics)	1.0Kg, 1-Channel Controller; 2.8Kg, 4-Channel Controller.

Precision Gas Mixing System

Mixing gas를 사용자가 원하는 목표 농도로 Mixing 및 Tank에 저장 후 공급하고, Mixing 된 Gas의 농도 재현성을 Cylinder Gas 를 사용하는 것보다 더 향상시킵니다. (저농도 Mixing용) 주요 사용 공정은 EPI 공정이며, Dopant Gas Mixing용으로 사용됩니다.... More Info Less Info

Veeco의 Precision Gas Mixing System은 사용자의 엄격한 공정 관리와 높은 수율 향상을 위해 혼합 가스의 정밀한 농도 제어로 고품질의 저농도 혼합 가스를 생산합니다.
고농도 Premix gas의 농도를 실시간으로 모니터링하고 능동적인 제어를 통해 고농도 Premix gas의 농도 변화나 변동을 보상합니다.
예를 들어, 1%의 고농도 Dopant gas를 사용하여 오차 범위 ±0.5ppm 이내로 관리된 50ppm의 저농도 Dopant gas를 생성할 수 있습니다.

비용절감 : 고농도의 Premix gas를 희석하여 저농도 혼합가스를 생산하고 지속적으로 공급할 수 있어 설비의 가동 중단 시간을 최소화 하고,
저농도 혼합가스 Cylinder의 구매 비용을 줄여 높은 비용절감 효과를 가져다 줌
다용도 : 일반적으로 반도체, LED 공정에서 사용되는 Precursor Chemical 또는 Dopant gas 혼합물을 사용할 수 있음
재고관리 : 설비 엔지니어가 다양한 농도의 가스 혼합물의 재고를 줄일 수 있음
사용 편의성 : 사용하기 편한 인터페이스로 혼합 가스 및 희석 가스를 선택하고 공정에서 요구하는 농도를 즉시 설정할 수 있음

번호 (No)	설명 (Description)	사양 (Specification)
1	Inlet Gas #1	1% B2H6, PH3
2	Inlet Gas #2	H2 5 N
3	Accumulator Tank	7L
4	Output gas concentration range	30 ~ 70ppm
5	Output gas concentration repeatability	± 0.5% (absolute range)
6	Output flow rate (average)	0 ~ 4 slpm
7	Output pressure	55~65 psig
8	Input source gas pressure	110 ~ 120psig
9	Inlet to supply pressure drop	40 ~ 50 psig
10	Operation voltage	110~240VAC, 6A, 1Phase
11	PZC sensor	1 sensor installed
12	Fab communications	Modbus TCP

Silicon Injector

실리콘의 특성중 순도 등급은 Quartz보다 4등급 높으며 탄화 규소보다 7등급 높습니다. 실리콘의 사용온도는 1350 °C이며 장시간 또는 고온사용에도 구멍이 생기거나 변형되지 않습니다. 열팽창 특성 또한 웨이퍼와 동일합니다. 반도체산업에서 사용되어지는 다른 재료들과 비교했을 때, 공정 시 실리콘은 가장 높은 순도를 보장합니다. 그러므로 반도체 공정에서 실리콘은 적합한 재료입니다.... More Info Less Info

동일 형질 접합

Si 단 결정 접합 제작으로 형질이 동일(열팽찰률 등)하여 Run 가동시 접합부분의 이격 발생이 없음

Injector 강도 향상

Run 가동시 가해지는 힘을 고려한 디자인 설계로 강도를 강화시켰으며, 부분 단일 결정 접합으로, 일체형 Body에 비해 강도 향상

Wafer Products

반도체 분야에서 사용하는 Bare wafer와 Film wafer 등의 일반적인 Test 웨이퍼 뿐만 아니라 MEMS 및 Optical device의 원부자재로 사용되는 Thick SOI Wafer를 생산 및 판매하고 있으며, CMP용 Pattern wafer 와 비용 절감을 위한 웨이퍼 재생 서비스를 함께 제공하고 있습니다. ... More Info Less Info

제품명	설명
Blanket Film Wafer & Wafer Process	Prime-grade, Test-grade, Dummy-grade 실리콘 웨이퍼 취급 및 재고를 확보하고 있습니다. Grade: Coin Stack, Dummy, Test, Prime 등 가능 사이즈: 4”(100mm)~ 12”(300mm)
Blanket Film Wafer & Wafer Process	재료나 물질, 공정, 장비의 성능을 평가하기 위한 블랭킷웨이퍼 각종 단위공정 Film Wafer및 공정 서비스를 제공합니다. Film Type - Diffusion Furnace/CVD - Metal Films - Coating Films - Other Process Service - Patterned Wafers 가능 사이즈 : 4”(100mm)~ 12”(300mm)
Oxide Wafer	Normal Thermal Oxide Films (THOX®), Super Thick Thermal Oxide Films (THOX®) Super Thick Thermal Oxide (THOX®) Wafer는 고유한 공정 기술을 통하여 최대 20㎛의 두꺼운 Oxide 층을 구현하여 제공하고 있습니다. 가능 사이즈: 4”(100mm), 6”(150mm), 8”(200mm), 12”(300mm)
SOI Wafer	SOI (Silicon on Insulator) 웨이퍼는 산화층에 단일 결정화 층이 구조화된 실리콘 웨이퍼이며 고속 LSI, 전력 LSI, 전력 장치, MEMS 분야에서 사용됩니다. 일반적인 SOI와 더불어 Cavity SOI 웨이퍼 또는 Thick Box SOI 웨이퍼와 같은 특수 SOI 웨이퍼를 제공합니다. Type - SOI Wafer - SOI Box Cavity Wafer - SOI Handle Cavity Wafer 응용분야 : MEMS, Power Device 가능 사이즈 : 4”(100mm), 6”(150mm), 8”(200mm)
Wafer Reclaim Service	이미 사용된 웨이퍼를 전달받아 별도의 공정을 통해 표면상태를 원래의 Bare 상태로 생산해서 공급해주는 서비스를 제공합니다. 가능 사이즈 : 8”(200mm), 12”(300mm)
Glass Wafer for Substrate, Packaging, Carrier	Applicable to 3D-IC TSV & TGV interposer, Carrier wafer for IGBT, MEMS GOS (Glass on Silicon), SOG (Silicon on Glass), QOS (Quartz on Silicon), SOQ (Silicon on Quartz), SOS (Sapphire on Silicon), customized SOI wafer. Wafer Diameter : 50, 100, 150, 200, 300mm. Round, Square, and Customzied shape. Notch and Flat based on SEMI or JEITA Standard. Thickness : 50µm ~ 3000µm. TTV < 3 µm. Roughness (Ra) < 0.5 nm (5A). Surface treatment: Polished or Frosted. Thin glass 50um, 100um, 200um with low edge chipping for high strength. Laser marking for tracking purposes.

Silicon Wafer

4”(100mm)~ 12”(300mm) 사이즈의 Prime-grade, Test-grade, Dummy-grade 실리콘 웨이퍼 취급 및 재고확보

기준 (Criteria)	사양 (Specification)
Size	4”(100mm), 6”(150mm), 8”(200mm), 10”(250mm), 12”(300mm)
Grade	Prime-grade, Test-grade, Dummy-grade
Type	P-type (Boron)
Orientation	<100>
Resistivity	Normal: 1~100Ω-㎝
Resistivity	**저저항이나 고저항은 고객사 협의 후 제공가능
Thickness	Semi Standard
Thickness	**두께는 고객사 협의 후 제공가능
Surface	SSP/DSP
Surface	**표면상태는 고객사 협의 후 제공가능

Glass Wafer

2”(50mm)~ 12”(300mm) 사이즈의 Package 용, carrirer용 Glass substrate 취급 및 재고확보

Glass Wafer for Substrate, Packaging, Carrier

Applicable to 3D-IC TSV & TGV interposer, Carrier wafer for IGBT, MEMS GOS (Glass on Silicon), SOG (Silicon on Glass), QOS (Quartz on Silicon),

SOQ (Silicon on Quartz), SOS (Sapphire on Silicon), customized SOI wafer.
Wafer Diameter : 50, 100, 150, 200, 300mm.
Round, Square, and Customzied shape.
Notch and Flat based on SEMI or JEITA Standard.
Thickness : 50µm ~ 3000µm.
TTV < 3 µm.
Roughness (Ra) < 0.5 nm (5A).
Surface treatment: Polished or Frosted.
Thin glass 50um, 100um, 200um with low edge chipping for high strength.
Laser marking for tracking purposes.

Chemical Filter-Mycropore

마이크로포어의 개발된 제품은 차세대 반도체와 디스플레이를 비롯해서 일반 산업현장과 물 여과공정에 필요한 특허받은 제품군, 맴브레인,필터 미디어와 여과 장치를 개발해왔습니다. 여과 비용 절감 · 압력손실의 최소화 · 파티클 여과 성능 · 에너지 절감 · 케미컬 절감을 통해 고객사의 전략적 파트너로서 오랜 경험을 바탕으로 요구하는 공정에 최적화된 제품을 제안드립니다.... More Info Less Info

MYCROPORE Corporation Ltd.

마이크로포어는 차세대 반도체와 디스플레이를 비롯해서 일반 산업현장과 물 여과공정에 필요한 특허받은 제품군, 맴브레인,필터 미디어와 여과 장치를 개발해왔습니다. 개발된 제품은 당사 전문가들의 열정과 항상 아래의 항목을 기반으로 완성되어 왔습니다. (· 여과 비용 절감 · 압력손실의 최소화 · 파티클 여과 성능 · 에너지 절감 · 케미컬 절감) 마이크로포어의 제품과 기술은 산업현장의 그 어느 제품보다 경쟁력을 갖고 있으며 고객사의 전략적 파트너로서 오랜 경험을 바탕으로 요구하는 공정에 최적화된 제품을 제안드립니다.

Facility Delivery System/Slurry Manufacturing
SlurriGard™-N, PS, DUO Cartridge Filter

특징 : Low particle & fiber shedding, Low metal extractable
장점 : Process improvement, Cost Reduction
추가사항 : 0.05um, 0.07um, 0.1um, 0.2um, 0.3um, 0.5um, 0.7um, 1um, 3um, 5um, 7um, 9um
선택사항 : Standard, Preflushed/Dry or Patented IPWetTM Technology

Equipment - POU (Point of Use Filter)
SlurriGard™-N, PS, DUO Disposable Filter

특징 : Improves particle retention, Faster start-up, Slurry savings
장점 : Process improvement, Cost Reduction
추가사항 : 0.05um, 0.07um, 0.1um, 0.2um, 0.3um, 0.5um, 0.7um, 1.0um, ECX2-5”-PD, ECX2-5”, ECP, EC2L-10”
선택사항 : Standard, Preflushed/Dry or Patented IPWetTM Technology

- SlurriGardTM 필터는 차세대 CMP (chemical mechanical polishing) 공정을 위한 Pre-cleaned CMP 슬러리 필터입니다.
- 슬러리 공정을 위한 최적화된 Media design : SlurriGardTM 시리즈 필터는 CMP 공정에 필요한 슬러리내 존재하는 Aggregate, Agglomerate and Microgels 과 같은 파티클을 제거합니다.
여과 이후에도 슬러리 사이즈 분포는 변하지 않습니다.

슬러리 종류에 따른 다양한 미디어 형태Slurrigard™ N, PS

0.5um 이상의 N 시리즈 필터 는 5~8 층의 마이크로 섬유 미디어로 이루어져 있으며 큰 여과 용량과 훌룡한 Filtration CUT OFF Curve를 보여줍니다.
반면 0.5um 이하의 필터는 Colloidal 및 Ceria 슬러리에 적합한 나노 섬유 미디어로 이루어져 있어 파티클 여과 성능이 매우 높습니다.

Slurrigard™ DUO

DUO 시리즈중 DUO 3 Version은 두가지의 Media design을 채택하여 하나의 필터내에 구현한 제품으로 Patented design, 3D MB upstream + Nano Fiber wrapped media downstream
미디어로 이루어져 있으며 다양한 슬러리에 적용 가능합니다.

Patented Pre-Wet Technology

0.5um 이하의 Pore size 에서는 Patented Pre-Wet process 가 적용된 필터를 통해 보다 빠른 가동에 따른 가동률 증가, 슬러리 절감, 향상된 여과 성능을 확인하실 수 있습니다.

CoopaGard - II HPX
High Purity Hydrophilic PTFE Membrane Filters

특징 : High Purity Hydrophilic PTFE Membrane with PP support
장점 : Broad chemical compatibility, High flow, Low pressure drop, Low pressure drop
추가사항 : Cartridge Filter 0.05um, 0.1um

CooperGard 는 구리도금 공정에 효과적이고 경제적입니다.

필터 미디어인 PTFE hydrophilic 맴브레인은 도금액 및 공정에 영향을 끼치지 않습니다.
E-Grade Extraction Treatment 는 유기물과 메탈 오염 제어에 탁월합니다.

50nm retention rating

최적화된 PTFE 고유량저압력 맴브레인 필터는 50나노미터까지 Seiving particle retention 메커니즘을 제공합니다.

Microbubble 제거

CooperGard 의 친수성 미디어 표면은 defect의 원인이 되는 마이크로버블의 생성 가능성을 줄여줍니다.

Megasonic Cleaner or Dilute HF Buffered Oxide Etch
BuffaEtch - HP /HPX

특징 : Highly asymmetric PES with PP support
장점 : Excellent retention, Excellent flow, Hydrophilic, High purity
추가사항 : Cartridge Filter 0.05um, 0.1um Available in 20nm

BOE(Buffered Oxide Etch) cleaning 과 Dilute HF recirculation bath 공정용 DUO-Retention 매카니즘 적용 DI Wafer cleaning

최적화된 HAPS 비대칭 Polysulfone 고유량, 저압 맴브레인은 10nm 까지의 sieving과 absorption 파티클 여과성능 매카니즘을 제공합니다.
BuffaEtch™ 필터는 20나노 공정의 요구에 신뢰성있게 적용할 수 있습니다.

Pre-wetting과 마이크로 버블 제거에 따른 down time 최소화

BuffaEtch™ 시리즈는 친수성이며 Pre-wetting 없이 Process up time을 최대화 할 수 있습니다.
초순수 DI를 이용한 Pre-flushed 제품으로 빠른 Rinse up time을 제공합니다.

HAPS Membrane

Polyethylene에 비해 강한 친수성을 갖고 있습니다. 완전 Wetting이 되므로 나노공정에서 중요시되는 마이크로버블을 적절히 제거합니다.

고유량

Minano™ HAPS 비대칭 polysulfone 맴브레인을 적용하여 산업에서 요구되는 고유량 filtration이 가능합니다.

DispoCup

특징

폴리프로필렌으로 만들어집니다.
동일 모델의 경우, 컵의 치수와 형태가 모두 동일합니다.

사용목적

결함을 줄인 향상된 표면특성: 세정가능한 컵보다 Disposal Cup의 표면이 더 Smooth 합니다.
생산성과 가동 시간 향상: 컵 교환 빈도가 낮으며 교체 시 걸리는 시간이 짧습니다. 유해 물질 취급이 필요없어 위험성이 낮습니다.
모든 컵은 100% 품질검사를 시행합니다.

장점

생산성이 향상됩니다.
세정 비용이 별도로 없습니다.
폴리프로필렌은 재활용할 수 있으며 환경친화적인 제품입니다.

Copper Anodes

Our consistent fine-grain Anode is made from 100% pure cathode copper allows for the least amount of sludging in the industry. Cast is also available for less demanding applications. ... More Info Less Info

Univertical uses innovative techniques and proprietary technology to ensure the highest quality anodes. Our consistent fine-grain Anode is made from 100% pure cathode copper allows for the least amount of sludging in the industry. Cast is also available for less demanding applications.

types of Anodes

• CU-PHOS™ PHOSPHORIZED COPPER ANODES
• CU-BRITE™ NON-PHOSPHORIZED COPPER ANODES
• CU-BRITE™ OXYGEN FREE COPPER ANODES
• OXYGEN FREE COPPER ROD
• CUT COPPER CATHODE
• NICKEL ANODES
• SOLDER ANODES
• ZINC ANODES
• BRASS ANODES
• TIN ANODE

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