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에코에너젠

  • 부스번호:P211

에코에너젠은 최적화된 대기 오염물질 처리장치 제작 및 Total Solution을 제공하고 있습니다.

Overview

에너지 자원 고갈의 가속화와 첨단 산업 발전에 따라 끊임없는 변화와 경쟁속에서 향후 환경문제는 더욱 강화될 전망입니다. 이에 에코에너젠은 반도체 장비 사업에서 축적된 기술 노하우와 플라즈마 신기술을 확보하여 경제적인 수입대체 효과를 넘어, 적극적인 해외 마케팅으로 경쟁력 있는 기업으로 거듭나겠습니다. 우리는 항상 고객의 성공에 기여하고 최고의 가치를 제공하기 위해 최선을 다하겠습니다.


  보도자료

  • [천안]올해 글로벌 강소기업으로 지정된 에코에너젠(대표 윤종필·천안시 입장면)이 1000만불 수출탑을 수상했다. 반도체 제조에서 발생하는 온실가스 등을 저감하는 독보적 기술력을 갖춘 에코에너젠은 향후 수년 내 1억 불 수출 고지에 오른다는 목표다.

    에코에너젠은 지난 23일 아산 모나무르에서 열린 '제61회 무역의 날 충남 수출유공자 시상식'에서 1000만불 수출탑을 받았다. 지난해 200만불을 돌파한 에코에너젠은 올해 수출액이 5배나 껑충 뛰었다. 수출 급증은 2010년 설립 뒤 에코에너젠이 지속해온 연구개발, 사업 영역 다각화, 해외시장 개척의 삼박자가 맞물려 상승효과를 키웠다. 에코에너젠은 지구온난화와 대기 환경 문제 해결책으로 질소산화물을 상온에서 처리해 미세먼지를 동시에 저감할 수 있는 기술 및 암모니아 배출 농도를 낮추기 위한 처리시스템 등에 강력한 솔루션을 보유하고 있다.

    특히 ESG경영의 부각에 따라 중요성이 더욱 커진 스크러버 분야에서 수십 년 간 현장경험을 쌓은 기술진이 다수 포진해 인적 강점도 지녔다. 스크러버는 반도체 제조공정에서 발생하는 유해 가스를 제거하는 필수장비다. 국내 반도체산업 불황 가능성이 대두되자 에코에너젠은 새로운 성장자원을 발구하는 것은 물론, 국내에서 검증된 실적을 바탕으로 해외시장 개척에도 나섰다. 국제 반도체 장비 전시회에서는 세계적인 반도체회사로부터 호평을 받았다. 납품 전 단계로 평가가 진행중이며 일부 해외 반도체사는 주문과 추가계약까지 마쳐 에코에너젠은 내년도 또다시 큰 폭의 수출 증가가 전망되고 있다.

    매출 신장세에 맞춰 올해 입장면 본사 사옥을 증축해 개발장비 실증시설 등을 확충했다. 충북 진천군 공장에 이어 반도체 클러스터 조성이 추진되는 용인에도 생산거점 부지를 마련했다. 2027년 1억불 수출 성취 기쁨을 배가 시키기 위해 윤종필 대표는 2027년 완등 목표로 올해부터 임직원들과 백두대간 등정에도 첫 발을 뗐다.

    윤종필 대표는 "글로벌 강소기업 지정에 따른 충남경제진흥원의 수출 바우처, 해외 홍보영상 지원 등이 큰 도움 된다"며 "2025년은 다양한 나라들과 기업으로 수출이 확대되는 한 해가 될 것"이라고 말했다.

    출처 : 글로벌 강소기업 에코에너젠, 1000만불 수출탑 수상

  • (서울=연합뉴스) 김아람 기자 = SK하이닉스[000660]는 국내 사업장의 식각 공정에 쓰이는 '스크러버'의 온실가스 처리 효율을 99%까지 끌어올릴 수 있는 신기술 개발에 성공했다고 9일 밝혔다.

    스크러버는 생산 과정에서 발생하는 부산물을 제거하는 장비로, 다양한 화학 물질이 쓰이는 반도체 공정에서 유해 물질을 정제하고 안전하게 처리한다.

    '처리 효율 99%'라는 수치는 온실가스 배출량이 계측기가 측정할 수 있는 최소량 이하로 검출됐다는 의미로, 사실상 배출이 거의 없다는 뜻이다.

    기존 스크러버에 물을 주입하고 가변출력시스템을 도입해 효율을 개선하고, 신규 베이(Bay)형 스크러버를 개발하는 방식으로 이뤄졌다. 

    베이형 스크러버는 온실가스 처리에 필요한 장비 대수를 줄여 전력 사용량과 관리·운영비를 줄이며, 내년 새로운 팹 M15X 오픈에 맞춰 도입될 예정이다.

    이번에 개선한 기존 스크러버와 도입 예정인 신규 스크러버는 모두 온난화 유발 효과가 큰 과불화화합물을 분해하는 장비다.

    SK하이닉스 탄관위 스크러버 도입 분과의 이성수 TL은 "1%의 효율 차이에도 온난화에 끼치는 영향이 달라지는 과불화화합물을 99% 수준의 고효율로 제거할 수 있다는 점에서 이번 성과의 가치는 매우 크다"며 "온실가스 직간접 배출량을 줄여 효과적인 방식으로 '넷제로 2050' 목표에 기여했다"고 밝혔다.

    출처 : SK하이닉스 "식각 공정용 스크러버, 온실가스 처리 효율 99%" | 연합뉴스 (yna.co.kr)


  제품정보

  • TOS(Two in One System)
    TOS는 Vacuum Pump(Chamber 진공)와 DC Arc Plasma Module(Gas 열분해), Wet Scrubber(수용성 Gas 처리), Electrostatic Precipitator(입자 처리)의 일체형으로 구성 되어 있음...

  • 반도체 제조공정을 진행하기 위해서는 생산장비를 진공으로 유지할 필요가 있으며, 이를 위해 Vacuum Pump를 사용한다.

    또한 반도체 생산을 위해 사용하는 Gas, Chemical류는 환경 및 인체에 해롭기 때문에 처리를 위한 Abatement System(P.O.U Scrubber)을 사용한다.

    반도체 생산설비의 경우 점점 작아지는 추세인데 반해 Vacuum Pump 및 abatement System은 공정 조건 및 배출규제 준수를 위해 점점 더 커지는 추세이다.

    TOS는 Vacuum Pump와 Abatement system을 일체화 함으로서, Dead Space를 최소화하고 열효율을 극대화하여,

    Minimized Footprint, High Pereformence를 달성 가능하다.

  • Bay Catalyst System
    반도체 Etch 공정에서 발생하는 CF4, SF6등 PFCs 가스 처리 각종 화학 산업 제조 공정에서 발생하는 PFCs 가스 처리...

  • PFCs를 처리하기 위해서는 과도한 에너지가 필요하며, 고액의 투자비 및 유지비가 발생함. 

    이를 개선하기 위해 촉매 기술을 적용하여 비교적 낮은 에너지에서도 PFCs분해 가능하며, 투자비 및 운영비의 절감 가능.

  • De-NOx System
    다양한 제조생산 공정에서 NOx가 배출되는 환경에 적용 ...

  • 오존 산화법과 당사에서 개발한 고효율 환원제를 사용하여 상온에서 질소산화물을 90% 이상 처리할 수 있는 장비로,

    법적 규제 강화 시설의 추가 투자 없이 환원제 투입량 증가로 NOx. 처리 효율을 상승 시킬 수 있어 설치 및 운영비 면에서 효율적인 장치

  • De-NH3 System
    De-NH3 System은 물 사용량을 절감하며, 높은 처리 효율을 통해 환경에 미치는 영향을 최소화 함. 또한 황산을 사용하지 않아 안전한 방법으로 운영이 가능....

  • 반도체 제조 과정에서 암모니아를 다량 사용하면서 악취와 대기오염의 원인이 되고 있는데, 

    이를 처리하는 기존 방법은 대량의 물을 사용하거나 위험성이 높은 황산을 사용해 물의 산성도를 높이는 방식임.

    De-NH3 시스템의 주요 특징:

    1. CO₂ 기체 마이크로화: CO₂ 기체 마이크로화를 이용하여 비표면적을 늘리고 용해율을 증가. 

                                    이를 통해 암모니아와 CO₂ 간의 상호작용이 보다 효율적으로 이루어져 반응 시간이 단축되고 처리 효율이 향상

    2. 물 사용량 절감: 기존 처리방식에서는 대량의 물을 사용해야 하지만, De-NH3 시스템은 물 사용량이 대폭 감소.

    3. 황산 사용 불필요: 기존 처리 방식에서는 물의 산성도를 높이기 위해 황산을 사용하는데 

                               De-NH3 시스템은 황산을 사용하지 않고도 안정적으로 물의 산성도를 올릴수 있음.

  • Wet-EP System
    미세입자, Mist등 복합오염물질을 동시 처리함...

  • 미세분무를 통한 세정집진과 코로나방전을 활용한 전기집진을 접목시킨 복합 오염물질 처리장치로 입자상 및 가스상 물질을 동시 처리 할 수 있으며,

    자동세정이 가능하여 유지보수에 매우 용이한 습식전기집진장치

  • TOS(Two in One System)
    TOS is an integrated system consisting of a Vacuum Pump (for chamber vacuum), DC Arc Plasma Module (for gas thermal decomposition), Wet Scrubber (for water-soluble gas treatment), and Electrostatic Precipitator (for particle removal)....

  • To carry out semiconductor manufacturing processes, it is essential to maintain production equipment under vacuum conditions, which is achieved using a Vacuum Pump.  

    Additionally, the gases and chemicals used in semiconductor manufacturing are harmful to both the environment and human health, necessitating the use of an Abatement System (P.O.U Scrubber) for proper treatment.  

    While semiconductor manufacturing equipment is becoming increasingly compact, Vacuum Pumps and Abatement Systems are growing larger to meet process requirements and emission regulations.  

    By integrating the Vacuum Pump and Abatement System, TOS minimizes dead space, maximizes thermal efficiency, and achieves Minimized Footprint and High Performance.