鑽⽯沉積反應器系統
能夠在多種材料上合成鑽⽯膜。
可控制多晶鑽⽯結構,以⽣產厚度500奈⽶⾄50微⽶的奈⽶晶或微晶薄膜。
流線型的腔室框架並簡化設施覆蓋⾯積。
控制架是獨⽴的可調式組件,可同時控制最多4個獨⽴的反應器腔。
系統規格
沉積面積 .......... 每一腔室33公分x30公分(13英寸x12英寸)
電力消耗 .......... 每一腔室最高35 kW
氣體控制 .......... 3個質量流量控制器(MFC)迴路標準:H2,CH4,N2/ 2個額外的氣體迴路可供選擇
壓力控制 .......... 工作範圍:6到50托 / 下游閉迴路節流閥控制
燈絲功率 .......... 最大30千瓦:200伏特直流電,150安培
接腳銲盤 .......... 腔室外框122公分x82公分(48英寸x 32英寸)
高度 ................. 最高190公分(74.5英寸)
重量 ................. 600公斤(1320磅)
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