Overview
Thermco Systems成立於1962年，是擴散爐（diffusion furnace）的原創
先驅，也是半導體市場領導者之一，為全球逾400家研發、汽車、通訊、消費電
子、電力和資料處理等產業的客戶提供服務。
Thermco Systems透過位於英、美、中三國的工
廠，針對既有、新興和嶄新的技術，提供一系列
的系統。該公司由內部團隊負責所有的機械、電
氣、電子系統和軟體開發設計，確保系統始終採
用最尖端的製程技術。透過設計排除過時和受
供應鏈吃緊影響的品項，確保享有真正的終身支
援。該公司在2022年成立全新部門Thermco SiC
Coatings，以滿足市場對碳化矽（SiC）塗層不斷成
長的需求。
Thermco Systems提供獨到的解決方案，支援最
高達300公釐（即12吋）的多種基板尺寸，以及碳化
矽、三五族半導體（III-V semiconductors）和其他
新型材料之類的物料：
一、Thermco Systems擁有全球最大的臥式擴散
爐安裝基礎。該公司憑藉豐富的經驗和製程知識，
確保提供高效的熱處理系統設計、最持久的上線
時間（uptime）、快速的生產能力和最低的擁有成
本。其解決方案提供全方位的特有常壓和低壓化
學氣相沉積（LPCVD）製程，可適用於嶄新和新興
市場。
二、該公司的EpiPro系列系統，是使用化學溶液沉
積（CSD）的磊晶成長（epitaxial growth）解決方
案，為主要用於新興功率器件（power device）領
域的矽和碳化矽晶圓，提供高產能的批量製程。
三、該公司的T-Clean提供全系列手動和全自動系
統，以支援半導體清洗、化學蝕刻、掀離（lift off）、
無電鍍（electroless plating）和RST乾燥製程，並
針對散裝化學品和氣體的儲存和安全輸送，提供
氣體和化學品輸送、分配和廢氣排放系統的尖端
設備。
四、化學品處理設備：處理半導體製程中使用的氣
體、化學品和其他材料，包括材料的儲存、輸送和
回收在內。
Thermco Systems積極從事研發，並對合作抱持
開放態度。目前正在進行的計畫包括：
• 減少晶圓表面的QSS電荷，並控制天然氧化物生
長。
• 碳化矽塗層和攝氏2,000至3,000度高溫熱處
的原型製作，系統可控制天然氧化物生長、氮化鎵
（GaN）沉積和氮化鎵擴散。