Shandong Zhongshan Photoelectric Material Co., Ltd.

淄博市,  山东省 
China
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  • Booth: L1005

  Products

  • 四氟化锗
    四氟化锗（GeF4）是一种锗的氟化物，分子量为148.63，无色、辛辣大蒜气味气体，空气中遇水产生大量白烟。常态下四氟化锗性质稳定，在水中发生水解，生成GeO2和H2GeF6。...

    • 产品参数：纯度：3N、4N、5N

    产品介绍：四氟化锗（GeF4）是一种锗的氟化物，分子量为148.63，无色、辛辣大蒜气味气体，空气中遇水产生大量白烟。常态下四氟化锗性质稳定，在水中发生水解，生成GeO2和H2GeF6。

    产品用途：四氟化锗在半导体行业中用于掺杂和离子注入。四氟化锗结合乙硅烷气体，可以直接在玻璃基底上制造硅锗微晶。在化学工业中还可用于合成试剂

  • 三氟化硼-11
    11B同位素对热中子的吸收截面积仅为0.005靶，用于半导体器件制程的掺杂剂能够有效提高器件的半导体性能和抗辐射干扰能力。
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    • 产品参数：纯度：≥99.9% 丰度：≥99.7%

    产品介绍：11B同位素对热中子的吸收截面积仅为0.005靶，用于半导体器件制程的掺杂剂能够有效提高器件的半导体性能和抗辐射干扰能力。

    产品用途：高纯三氟化硼-11是硅和锗外延、扩散和离子注入过程的p型掺杂源；是制备光纤预制件的原料；还可用于制造乙硼-11烷、三氯化硼-11等。  

  • 三氟化硼-10
    10B同位素具有对中子高吸收的独特特性，对热中子的吸收截面为3837靶，是高效的热中子吸收剂，是自然丰度硼的5倍，石墨的20倍；除了吸收截面大，与其它常见的中子吸收材料Gd和Cd等相比，10B或者富集10B及其化合物被广泛应用于辐射防护、中子探测、军事装备及放射性治疗等领域。...

    • 产品参数：纯度：≥99.99% 丰度：≥98%
    产品介绍：10B同位素具有对中子高吸收的独特特性，对热中子的吸收截面为3837靶，是高效的热中子吸收剂，是自然丰度硼的5倍，石墨的20倍；除了吸收截面大，与其它常见的中子吸收材料Gd和Cd等相比，10B或者富集10B及其化合物被广泛应用于辐射防护、中子探测、军事装备及放射性治疗等领域。如富集10BF3可作为制造BF3正比计数管的原料用于中子探测领域；在核工业中也可作为生产硼-10酸、碳化硼-10、硼-10粉、硼-10化锆的原料，用作中子吸收剂材料；也可用于生产硼-10不锈钢，用作辐射屏蔽材料，在辐射防护领域发挥作用。
  • 三氟化磷
    三氟化磷，是一种无机化合物，化学式为PF3，在常温常压下为无色无味的有毒气体，液态时为无色透明液体，空气中不太发烟，相当稳定，加热时与氢反应生成PH3，能与水反应生成亚磷酸和氟化氢。碱中也能分解。可溶于乙醇。除在高温外，不腐蚀玻璃。...

    • 产品参数：纯度：3N、4N、5N
    产品介绍：三氟化磷，是一种无机化合物，化学式为PF3，在常温常压下为无色无味的有毒气体，液态时为无色透明液体，空气中不太发烟，相当稳定，加热时与氢反应生成PH3，能与水反应生成亚磷酸和氟化氢。碱中也能分解。可溶于乙醇。除在高温外，不腐蚀玻璃。
    产品用途：三氟化磷是一种重要的化学试剂，在工业和科研领域有着多种用途。在半导体制造过程中，三氟化磷可作为掺杂剂，用于掺杂硅等半导体材料，从而改变其电子特性。
  • 二氟化氙
    二氟化氙（XeF2），又称二氟代 氙，分子量为169.30，是一种无色固 体，在电子工业中，XeF2常被用作硅的蚀刻气体，由于XeF2和硅的化学反应是 自发反应，XeF2对硅的刻蚀工艺具有非 常高的选择性，在XeF2对硅进行刻蚀过程中，XeF2气体通过自由扩散到硅衬底表面，并与最外层硅原子发生化学反应生成气态Xe和气态SiF4，从而实现对硅的腐蚀...

    • 产品参数：纯度：3N、4N、5N
    产品介绍：二氟化氙（XeF2），又称二氟代 氙，分子量为169.30，是一种无色固 体，在电子工业中，XeF2常被用作硅的蚀刻气体，由于XeF2和硅的化学反应是 自发反应，XeF2对硅的刻蚀工艺具有非 常高的选择性，在XeF2对硅进行刻蚀过程中，XeF2气体通过自由扩散到硅衬底表面，并与最外层硅原子发生化学反应生成气态Xe和气态SiF4，从而实现对硅的腐蚀。
    产品用途：在电子工业中，XeF2常被用作硅的蚀刻气体。此外，二氟化氙是一种选择性很好的氟化试剂，在无机氟化物制备及有机合成中有广泛的应用，但其只有在气相和非水溶液中才具有氟化性质，在水溶液中只能起氧化剂的作用。
  • 三氟碘甲烷
    三氟碘甲烷作为一种新型环保绝缘气体它具有良好环境特性，绝缘强度优于SF6。CF3I的击穿分解不会产生有毒产物，一定条件下对绝缘强度等不会产生负面影响。
    ...

    • 产品用途：
    三氟碘甲烷作为灭火剂有灭火效率高、安全性能好、灭火后不留痕迹等特点，是哈龙1301优选替代品种；作为制冷剂，具有油溶性和材料相容性好的特点，是传统氟利昂制冷剂的理想替代品种之一。作为精密仪器清洗剂，对油污清洗彻底，不需要添加表面活性，且气体循环使用，不产生二次污染。医药级三氟碘甲烷广泛应用于抗癌药物(ABT263,ABT737)。高纯三氟碘甲烷可用于半导体刻蚀，与同种刻蚀气体CF4、C4F6相比，蚀刻时具有更高的选择性和高深宽比。
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