MINSEOA Advanced Materials Co.,LTD

济南市,  山东省 
China
http://www.minseadvanced.com
  • Booth: T1244

明士公司秉承“搭建平台、整合资源、科学发展、诚信共赢”的理念,打造国际国内一流半导体产业集群,开创不负时代的新辉煌。

Overview

   明士新材料公司(MINSEOA)成立于2017年10月, 在北京,上海,济南设有分公司。专注于半导体和显示领域聚酰亚胺材料的研发、生产、销售和技术服务,产品主要包括N-PSPI, P-PSPI, Non-PS PI等, 主要用于半导体制造过程中芯片的钝化层、应力缓冲层和WLCSP/Fan-out/Chip-let等工艺的RDL。
    公司发展理念:以一流的人才和技术优势,为客户提供性能与品质一流的产品,以及一流的技术支撑与服务。


  Products

  • PAE-1400 s
    MINSEOA® PAE-1400 s 负性光敏聚酰亚胺(PI)涂层胶经紫外i-线曝光后,通过显影、漂洗、热亚胺化等工序可得到形状和尺寸精度可控的立体光刻图形,工艺窗口宽,膜厚范围3-40 μm。...

  • MINSEOA® PAE-1400 s 负性光敏聚酰亚胺(PI)涂层胶经紫外i-线曝光后,通过显影、漂洗、热亚胺化等工序可得到形状和尺寸精度可控的立体光刻图形,工艺窗口宽,膜厚范围3-40 μm。由于PI层膜具有高耐热、高强韧、高粘附、高电绝缘、低介电常数及损耗、高抗化学稳定性等优异性能,该产品在微电子制造与封装领域具有广泛而重要的应用价值,其代表性应用包括:(1)半导体芯片表面的一级和/或二级钝化层膜;(2)塑封IC电路的应力缓冲-吸收层膜;(3)BGA/CSP及MEMS等先进封装的层间介质绝缘膜等。
  • PAE-8060s
    MINSEOA® PAE-8060s是一种正性光敏聚酰亚胺(PI)前驱体树脂溶液。经UV i-线曝光后,通过有机碱水溶液显影、漂洗、热亚胺化等工序可得到形状和尺寸精度可控的正性PI光刻图形,膜厚范围: 3-10μm。...

  • MINSEOA® PAE-8060s是一种正性光敏聚酰亚胺(PI)前驱体树脂溶液。经UV i-线曝光后,通过有机碱水溶液显影、漂洗、热亚胺化等工序可得到形状和尺寸精度可控的正性PI光刻图形,膜厚范围: 3-10μm。该PI层膜通过的防潮和防大气污染物,具有优异的热稳定性、高韧性、高电绝缘、低介电常数及高粘附性。该产品主要为半导体应力缓冲器、BGA/CSP、SIP封装应用而设计,与设备表面有良好的化学相容性,为芯片和互连线提供物理和环境保护。其代表性应用包括,(1)半导体器件表面应力缓冲-吸收涂层;(2)半导体芯片表面的一级和/或二级钝化层膜;(3)BGA/CSP及MEMS等先进封装的层间介质材料等。