Overview
光微半导体材料（宁波）有限公司成立于2021年1月，总部坐落于浙江省宁波市杭州湾新区，总投资2亿元 ， 占地面积14700平方米。光微半导体在半导体靶材领域方面有10年的制造经验，我们构建了一个从金属提纯到靶材制造的高阶半导体靶材全产业链条的服务模式。主要服务领域： 芯片制造 ， 显示 ， 薄膜太阳能 ， 核工业 ， 航空航天领域。
光微半导体在半导体靶材领域方面有10年的制造经验，为了更好的把控材料端质量的稳定性，我司建立了完备的全产业链的生产过程，其中包括：提纯系统-真空感应熔炼/磁悬浮熔炼+锻造&轧机/IPAS弯角挤压&轧机-- 热处理 (焊接)-- CNC机加工--检验--包装运输.
三大核心技术
1.湿法电解提纯技术
Wet Electrolytic Purification Technology
自有研发和设计湿法提纯设备;适用于多种金属的提纯，7NCu、6NNi、6NCo、6NAg、6NMn;半导体铜靶高纯原材料自给自足.
2..磁悬浮熔炼 LEVITATION SMELTING
-公司成立设备公司，为光微提供专用化设备
采用光微子公司生产的真空熔炼炉和磁悬浮熔炼炉分别生产低纯度铜合金系列（C18000,C18150,C15000,C46400,C46200,Hsn62-1,Hsn70-1）和高纯铜锭和铜锰合金；其中光微独创的磁悬浮熔炼技术，熔炼过程污染少，对关键杂质Fe,S的控制准确，5%-10%合金均匀性。
3.IPAS加工技术
光微开发的IPAS加工技术，
设备自主设计，形成关键核心技术的保护壁垒；实现靶材的的超细晶粒尺寸和更均匀的材料结构；晶粒可细化至0.8um左右，晶相控制均匀，更优的组织结构；更高的溅射速率，使用寿命和成品率。
公司自建实验室，建立了完备的测试体系，保证全套供应链系统的完整进行，会利用GDMS,XIF,ICP-MS测材料含量，用C-scan测材料缺陷，全面分析材料的电气性能、机械性能以及微观结构。
主要检测设备：粗糙度检测仪，硬度测试仪，拉力测试仪，精密研磨机，ICP-MS,GD-MS,EGA,C-SCAN,电子显微镜，XRF，三坐标。我们已经通过ISO9001:2015质量体系认证。文档，可追溯性，统计过程控制，详细的测试和过程规范以及复杂的分析方法和不断的员工培训保证过程的重要组成部分。
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