Loading...

ヱビナ電化工業

大田区,  東京都 
Japan
https://www.ebinadk.com
  • 小間番号1927


半導体装置・部品関連へのめっき技術紹介を行っています。表面処理に関する課題解決いたします。お気軽にお立ち寄りください。

ヱビナ電化工業は、【めっき処理】を主軸とした表面処理事業を展開しています。

めっきとは、様々な素材に金属の薄い膜を形成する技術を指し、素材の特性も生かしながら、導電性や放熱性、防食性や半田濡れ性などの様々な機能を素材に付与する技術です。
当社は既存技術の深化に限らず、めっき以外の表面処理技術の導入にも注力し、ものづくりの可能性を追求しつづけています。世の中がめまぐるしく変化する中で常にお客様に表面処理による新たな付加価値を提供しご満足いただけるよう、最先端の技術探求と創造性を併せた表面処理の可能性を追求し続け、受託加工のみではなく、提案型・課題解決型の企業へ変革のチャレンジを始めています。

今回の展示会では半導体製造装置向け微細ガラス・セラミックス基板を展示しています。さらには長年の表面処理技術を発展させためっきによる放熱めっきスゴヒヱや無電解ニッケルめっきから半導体製造工場内に直接搬入可能なクリーンルームでの精密洗浄まで一貫対応プロセスもご紹介いたします。

主要技術
金属・セラミックス・ガラス・プラスチックス等の様々な材料に新たな性能を付与する機能めっきを中心とした表面処理技術を開発し、製造しています。

:ガラスの貫通穴加工&めっき、セラミック基板へのめっき、複合材へのめっき、LDS技術、黒色めっき、電気鋳造、チタンの陽極酸化、放冷めっきスゴヒヱ、撥水めっき等

主要設備
表面分析:蛍光X線式膜厚計、デジタルマイクロスコープ、カラーレーザー顕微鏡、電界放出型走査型電子顕微鏡、エネルギー分散型X線分析装置、表面形状粗さ測定器、X線光電子分光等

液分析:原子吸光分光光度計、誘導結合プラズマ発光分光分析装置、イオンクロマトグラフ、キャピラリー電気泳動分析装置、電気化学測定装置、紫外可視分光光度計等

試験・評価:引張強度試験機、超加速寿命試験装置、超微小硬度計、測定顕微鏡等


 出展製品

  • ガラスの貫通穴加工、めっき処理
    ガラス基板に数十μmサイズのスルホールを多数形成し両面基板を製作しています。加工後基板へのめっきも対応いたします。インターポーザ・半導体製造装置基板、通信、医療、バイオ向けに紹介しています。 https://ebinadk.com/tech/garasu-mekki/...

  • ガラスは透明・絶縁性・加工性に優れた材料です。

    当社プロセスでは、薄膜ガラス基板に数十μmサイズのスルホールを多数形成し、めっきによって両面回路基板を製作しています。

    独自の方法により数万穴の穴を短時間かつ滑らかに加工でき基板の加工と回路形成を一括で対応し,実装部品の高集積化に貢献します。

    また、資材調達から貫通穴加工、めっき、ダイシング加工迄一貫対応が可能ですので、リードタイムの短縮と管理コスト削減を可能にします。

    https://ebinadk.com/tech/garasu-mekki/

    特徴>
     クラック・カケを生じない
     平滑な側壁
     超高密度の微細穴
     デバイスの小型化・集積化


    用途例>
     電気を通す:センサー、スイッチ、半導体パッケージ基板、検査機器
     液体を通す:マイクロノズル、インクジェットヘッド部品、検査機器
     光を通す:光遮光板、マイクロフィルター、電子線アパーチャー、精密遮光板、検査機器、ディスプレイ

  • セラミック基板へのめっき
    アルミナ・窒化アルミニウム等、高放熱性を有するセラミックス材に、配線パターン形成や穴埋めめっき等が可能です、半導体デバイスなどの性能向上を実現します。 https://ebinadk.com/tech/ceramic-kiban/...

  • 情報通信量の増加に伴い、放熱基板の需要も急速に拡大しています。アルミナ・窒化アルミニウムなどのセラミックス基板に対し、
    厚Cu回路を形成し、放熱基板としての使用が可能です。また、貫通穴へのめっき処理も可能です。お気軽にお問合せください。
    特長>
    導通性・はんだ濡れ性の付与
    長年培ったノウハウによる多彩なプロセス
    セラミック基板の調達から一貫対応
    対応可能な素材と用途例>
     アルミナ Al2O3放熱基板、ペルチェモジュール
     ジルコニア ZrO2ペルチェモジュール
     酸化亜鉛 ZnO半導体回路基板、LED
     チタン酸バリウム BaTiO3ー GPS用誘電体パッチアンテナ、PTCサーミスタ
     チタン酸ジルコン酸鉛 PZTインクジェットプリンタヘッド
     窒化アルミニウム AlN発光ダイオード用基板、ペルチェモジュール、放熱基板
     炭化ケイ素 SiCLDパッケージ基板
     窒化ケイ素 Si3N4ー インバーター、コンバーター、バッテリー、二次電池
  • 無電解ニッケルめっきとパーティクル対策精密洗浄
    ガラス・セラミックス・金属、各種素材へのクリーンルーム向け精密洗浄を行います。当社でのめっき・洗浄の一貫生産も可能です。 https://ebinadk.com/tech/mudenkai-nikkeru/...

  • 無電解ニッケルめっきは、リンやホウ素と共析させることで耐食性や硬度、耐摩耗性の向上、はんだ濡れ性の付与が可能となります。

    お客様の求める品質に併せてNi-Pめっき、Ni-Bめっき、PTFE複合Niめっきなど、様々なタイプの皮膜を提案いたします。

    また、近年、半導体回路の微細化に伴い製造装置に使用する部品のクリーン度要求も高くなっています。めっき後の製品にパーティクルなどが付着していると、クリーンな環境を汚染する懸念があるため、当社では新たに洗浄設備を導入し、クラス10000環境のクリーンルームを新設しました。
    従来のめっき作業現場では困難な”クリーンな環境”で洗浄し、真空梱包することで、半導体などの清浄度が求められる精密部品にも適用可能です。半導体関連部品への実績もございます。
    マスキング、めっき処理、精密洗浄、真空梱包まで、弊社ですべて一貫して担うことで、お客様の輸送や在庫管理の手間を省き、管理コスト・納期を短縮します。
     めっきのみ、洗浄のみでも対応可能です。お気軽にご相談ください。

    https://ebinadk.com/tech/mudenkai-nikkeru/

  • 放熱めっき スゴヒヱ 令和5年度 Go-Tech事業採択技術
    皮膜表面の微細な突起形状のコントロールにより実現した放熱めっき「スゴヒヱ」は、放熱材量の性能や排熱効率を向上に貢献する特殊皮膜です。 https://ebinadk.com/tech/sugo-hie/...

  • 放熱めっきスゴヒヱの紹介です。

    金属部品への放熱フィン加工は切削やレーザー加工が一般的ですが大面積には不向きでした。

    当社ではめっきによって高さ1~3μmのフィンを大面積に一括で形成し放熱性向上と低コスト化を実現しています。

    さらには従来難しかった部品内壁にもスゴヒヱ皮膜の形成は可能です。

    「スゴヒヱ」の表面で沸騰した液体は、気泡の微細化、核沸騰サイトの高密度化、気泡ならびに液体の高速対流が起こり、平滑面に比べ限界熱流束を超える沸騰熱伝達特性が得られます。
    また、冷媒の流速を上げることで低過熱度領域での伝熱が向上することも確認されています。

    特徴>
    デザイン工学によるマイクロテクスチャ
    最表面・界面を介した熱伝達
    約9~20万個/㎠のマイクロフィン

    用途例>
    CPU/GPU、ヒートシンク、べーパーチャンバー、ヒートパイプなど各種放熱デバイス

    http://ebinadk.com/tech/sugo-hie/