Trapは半導体製造プロセスにおいて発生する副産物(Byproduct)を捕集する装置です。
Process Chamber(半導体製造装置)内に流入するガスは、Wafer Processに使用された後に、Vacuum Line, Vacuum Pump, Scrubberを通り、排気処理されます。その際、ガス間の反応により発生した副産物がVacuum Lineに堆積すると、Pumpの効率を低下させ、圧力が不安定となります。更にPumpの停止という深刻な事態を引き起します。
このような問題を防止するために、Vacuum LineにTrapを設置し、副産物を捕集します。
配管の詰まりを防止し、PumpとScrubberを保護します。
装置全体としての安定稼働、安定したprocessにお役に立てることができます。