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マイクロニックテクノロジーズ

調布市調布ヶ丘,  東京都 
Japan
https://www.mycronic.com/
  • 小間番号6003


半導体フォトマスク用レーザー描画装置を主にご紹介します。弊社ブースに是非お立ち寄りください。

Mycronicはエレクトロニクス産業において高い精度と柔軟性を必要とする製造装置をご提供するスウェーデンのハイテク企業です。

4部門で事業を展開していますが、セミコンジャパンでは主に描画装置部門より半導体用フォトマスク描画装置SLXシリーズをご紹介いたします。

Mycronicの描画装置部門は、フォトマスクを製造するマスク描画装置をご提供しており、多様な分野で使用されています。様々なサイズのディスプレイ(テレビ、スマートフォン等)製造用や半導体製造用の他、多用途の描画装置を取り揃えており、幅広いアプリケーションに対応することが可能です。Mycronicのブース (小間番号6003) では、半導体や高度なパッケージング製造向けのマスク描画装置についてご紹介します。

半導体用フォトマスク描画装置SLXシリーズは、成熟したプロセスノードの半導体の需要増加に対応するために2019年に発売された半導体用の新世代レーザーマスク描画装置です。2019年の発売以来、延べ44台のご注文を頂き、多くのリピートオーダーを頂いています。SLXシリーズは、急速な技術革新に対応する最新のハードウェアおよびソフトウェア・プラットフォーム上に構築されており、今後何年にも亘ってお客様のニーズにお応えします。

初代SLXより進化したSLX e2シリーズの更に先を見据え、Mycronicは性能、安定性、持続可能性の面でSLXシリーズの研究開発を続けることをお約束します。

また、長年に亘り実績のある多用途フォトマスク描画装置FPS Evoシリーズもご紹介します。

高度なパッケージング向けのフォトマスク製造も対応が可能です。

Mycronicのブースに是非お立ち寄りください。


 出展製品

  • 半導体フォトマスク用レーザー描画装置SLX e2シリーズ
    SLX e2シリーズは、より高精細で、より厳密な新しい仕様のSLXシリーズの最新機であり、4種類の製品モデルを取り揃え、業界の様々なニーズにご対応します。...

  • Mycronic SLX e2 シリーズは、ハードウェアとソフトウェアの両方を最適化することで、従来よりもさらに高解像度に対応できるようになりました。これにより、SLX 3 e2 は 90nm ノードに対応するなど、各機種がより微細なノードに対応できるようになり、対応可能な市場が拡大しました。このような低ノードへの対応により、レーザーマスク描画装置は、電子ビーム描画装置の代わりに半導体マスク製造の生産拡大に対応することができ、マスク1枚あたりの生産コストと時間の両方を削減することができます。

    □ MY Intelligenceソフトウェアを搭載

    SLX e2シリーズの信頼性がさらに向上しました。装置からログファイルを収集・分析することで、品質管理のレベルを向上しました。予防および予測メンテナンスに関する通知が得られるだけでなく、SLXをより有効活用できるようになります。

    □生産開始初日から熟練エンジニアによるサービスをご提供

    SLX e2シリーズは、他Mycronicのマスク描画装置と同様に、最新のEvoコントロールプラットフォームを採用しています。そのためSLX e2シリーズでは、生産開始初日から弊社の熟練したサービスチームのサポートをご利用いただけます。また、旧装置では困難であった装置のアップタイムの最大化とパフォーマンスの最適化を実現します。

    □多彩な装置構成

    SLX e2シリーズには4種類のベースモデルがあり、事業戦略に応じて顧客のご要望に応じた幅広い構成を選択できます。

    • SLX1 e2: 高スループットのi線モデルで、ローエンドの半導体製造に最適な生産性を実現します。
    • SLX2 e2: 生産性とより微細なノードを両立したバランスの良い装置。
    • SLX Lite3 e2:  位相シフトマスク用途に最適化されたDUVモデル。
    • SLX3 e2:  90 nmのノードまで対応可能な最先端モデル。
  • 多用途フォトマスク描画装置FPS Evo シリーズ
    FPS Evoシリーズは、高度なパッケージングからニッチなアプリケーションまで、さまざまな用途で使用されているレーザーマスク描画装置です。...

  • 新世代のFPSシリーズは、Evoコントロールプラットフォームをベースに構築されています。新しい革新的なソフトウェアとハードウェアのアーキテクチャで改良を加え、将来の生産自動化、高度な接続性、ビッグデータアプリケーションに対応できるように設計されました。FPS Evoシリーズは、FPS 6100 Evo、FPS 6100E Evo、FPS 8100 Evoの3つのモデルを取り揃えています。

    • FPS6100 Evo

    FPS6100 Evoは、クロムマスク用のレーザーマスク描画装置です。6種類の異なる描画レベルにより、用途に応じた最適な画質と生産性を実現します。

    • FPS6100E Evo

    FPS6100E Evoは、エマルジョンマスク用のレーザーマスク描画装置です。3種類の描画レベルを搭載し、ユーザーによる選択が可能です。

    • FPS8100 Evo

    FPS8100 Evoはファインメタルマスク用に設計されたレーザーマスク描画装置で、G6サイズのディスプレイまで対応可能です。2種類の描画レベルを搭載しています。

    • FPS 10 Evo

    FPS10 EvoはFPSシリーズで最新かつ最大級の装置です。G8サイズディスプレイのファインメタルマスクに対応します。