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Lab to Fab HORIBA All Around!
HORIBAは、半導体製造における製造プロセス（ドライプロセス・ウェットプロセス・リソグラフィ）、研究開発、品質管理、 さらに工程で使用する純水や排水処理などでの水質計測などに向けた多彩なアプリケーションを展開しています。 製造プロセスでは、半導体の微細化・多層化が進展し、これまで以上に精密な計測・制御が求められています。 流体制御、液体計測、分光分析など様々なコア技術を活用し、 高速かつ高精度なガス供給を実現するマスフローコントローラーをはじめ、様々な製品を提供しています。
半導体製造プロセスでは、成膜やエッチングをはじめとし、多種多様な製造工程で、プラズマ技術が利用されています。 プロセスの終点検知やコンディション管理、プラズマ診断など、各種プラズマチャンバーの研究開発から生産ラインまで、幅広い用途に対応可能なプラズマ発光モニタです。 今回新規に開発された高分解能・ワイドレンジ・小型の3モデルから、用途に合わせて最適な仕様が選択可能です。また、専用の解析ソフトウェアにより、プラズマの微小な信号変化から精密なエンドポイントの検出やプラズマプロセスの異常監視など幅広いニーズに対応可能です。
Micropole systemは世界最小クラスの質量分析計です。
９つの四重極部で構成される独自構造のセンサは、ユーザ自身で簡単に交換可能、センサに付随するパラメータを入力するだけで校正は必要ありません。
一般的な質量分析計よりも低真空（高圧）領域で動作し、追加の設備が不要です。真空チャンバのコンディション管理やプロセスモニターに最適です。