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堀場エステック

京都市南区上鳥羽鉾立町,  京都府 
Japan
https://www.horiba.com/jpn/semiconductor/
  • 小間番号4808


Lab to Fab HORIBA All Around!

HORIBAは、半導体製造における製造プロセス(ドライプロセス・ウェットプロセス・リソグラフィ)、研究開発、品質管理、 さらに工程で使用する純水や排水処理などでの水質計測などに向けた多彩なアプリケーションを展開しています。 製造プロセスでは、半導体の微細化・多層化が進展し、これまで以上に精密な計測・制御が求められています。 流体制御、液体計測、分光分析など様々なコア技術を活用し、 高速かつ高精度なガス供給を実現するマスフローコントローラーをはじめ、様々な製品を提供しています。


 出展製品

  • 次世代差圧式モジュール D700Series
    CRITERION™シリーズの最新機種...

  • 半導体製造におけるガス制御はプロセス結果を左右する重要な要素の一つです。近年は先端半導体デバイスの微細化・三次元構造化といった進化に伴い、生産性や歩留まり向上へ寄与するガス制御性能の改善要望が日々高まってきています。堀場エステックはCRITERION™シリーズの最新機種として「D700」を開発し、流体計測制御技術を通して更なる顧客満足を目指します。
  • ウェハ裏面圧力制御システム GR-500
    正確・安定的に微小な圧力制御...

  • ウェハ裏面の温度制御に不可欠なヘリウムガスやアルゴンガスなどの伝熱性ガスの圧力制御を安定性良く、高精度に行います。高速・高分解ピエゾバルブとマスフローセンサを搭載しており、正確・安定的に微小な圧力制御を行うのみならず、流量計測も可能です。
  • プラズマ発光モニタ EV2.0Series
    幅広い用途に対応可能なプラズマ発光モニタ...

  • 半導体製造プロセスでは、成膜やエッチングをはじめとし、多種多様な製造工程で、プラズマ技術が利用されています。
    プロセスの終点検知やコンディション管理、プラズマ診断など、各種プラズマチャンバーの研究開発から生産ラインまで、幅広い用途に対応可能なプラズマ発光モニタです。
    今回新規に開発された高分解能・ワイドレンジ・小型の3モデルから、用途に合わせて最適な仕様が選択可能です。また、専用の解析ソフトウェアにより、プラズマの微小な信号変化から精密なエンドポイントの検出やプラズマプロセスの異常監視など幅広いニーズに対応可能です。

  • 四重極形質量分析計 Micropole System QL series
    真空チャンバのコンディション管理やプロセスモニターに最適な四重極形質量分析計...

  • Micropole systemは世界最小クラスの質量分析計です。

    9つの四重極部で構成される独自構造のセンサは、ユーザ自身で簡単に交換可能、センサに付随するパラメータを入力するだけで校正は必要ありません。

    一般的な質量分析計よりも低真空(高圧)領域で動作し、追加の設備が不要です。真空チャンバのコンディション管理やプロセスモニターに最適です。

  • キャパシタンスマノメータ VG-200S
    高精度かつ高安定性を実現 ...

  • 自己温調型では最小クラスの隔膜式真空計。独自の電極構造により高精度・高安定を実現しています。