物質・材料研究機構

つくば市千現, 茨城県
Japan
https://www.nanofab.jp/

小間番号6831

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出展製品

デバイス試作・プロセス開発のお困りごとは是非NIMSにご相談ください！

NIMSの半導体微細加工プロセス共用施設を活用しよう！

【共用施設の特徴】

約60台の微細加工プロセス・評価装置が利用可能
いつでもどこからでもオンラインで装置予約可能
多種多様な材料・利用目的に対応した装置を提供
小片から8インチまで様々な開発目的で利用可能

【主な共用装置】

露光：電子ビーム描画装置、レーザー描画装置、マスクレス露光装置、など
成膜：スパッタ装置、真空蒸着装置、CVD装置、ALD装置、など
エッチング：CCP-RIE、ICP-RIE、シリコンDRIE、原子層RIE、など
熱処理：赤外線ランプ加熱装置、など
観察：走査電子顕微鏡、走査プローブ顕微鏡、レーザー顕微鏡、など
評価：エリプソメータ、反射分光膜厚計、表面段差計、など
計測：室温プローバー、低温プローバー、など

出展製品

NIMS微細加工プロセス共用施設

茨城県つくば市にあります... More Info Less Info

企業や大学の研究開発にNIMSの装置と技術をご活用ください

Categories

200 装置、組み立て

クリーニング/組み立てとパッケージング用洗浄装置

ダイシング/ソーイング/スクライブ/切り離し装置

ワイヤボンデング装置

203 装置、検査及び測定

ストレス：屈折率/反射率及び伝導率測定

膜厚：厚さ/均一性測定/エリプソメーター

顕微鏡：光学顕微鏡

顕微鏡：原子間力顕微鏡（AFM)

顕微鏡：走査型電子顕微鏡（SEM)/集束イオンビーム/透過型電子顕微鏡（TEM)

204 装置、MEMS

ダブルサイド露光機

深堀ＲＩＥエッチング/ドライエッチング

207 装置、プロセス

エッチング/ストリッッピング/アッシング-ドライ及びウェット装置

クリーニング/洗浄/基板乾燥装置/ファブプロセス

コート/現像/レジストプロセス/搬送装置

リソグラフィ；露光/アライナ/直接描画装置/ステッパ/スキャナ/ナノインプリント

熱プロセス-拡散/酸化/アニール/RTA/RTP装置

積層化：化学的気相成長（ＣＶＤ）/MOCVD/ PECVD/ LPCVD/ ALD/ REALD/ MVD

積層化：物理的位相成長 (PVD)/ スパッタ/蒸着装置

305 材料、ナノテクノロジー

材料；ナノテクノロジー

308 材料、基板

ガリウム・ヒ素（GaAs);サファイヤ基板

ダイヤモンド基板

化合物半導体（GaAs、GaN、InP、SiGe）

701 製造サービス、またはコンサルテング

テストサービス、コンサルティング

802 教育、研究機関

教育訓練/研究機関（非営利）/学会/大学