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セルバック

京都市,  京都府 
Japan
http://www.selvac.co.jp
  • 小間番号6939

CVDプロセスの新技術をご紹介します。

半導体の高集積化に伴い、配線パターンがより微細化しています。

低温成膜で、微細TSVの側壁絶縁膜、パワーデバイスのゲート絶縁膜で使用可能。

独自のプラズマ源で、多くのデバイスに対し低ダメージ処理、低温処理で

対応致します。


 出展製品

  • PEGASUS(HDP-CVD)
    低温高密度膜形成装置(高密度プラズマCVD)...

  • PEGASUS(HDPーCVD)は、先端デバイスに求められる低温処理で、高特性の膜質形成が可能な装置です。

    低温処理では、困難な高絶縁、被覆均一性等の要求に対してハード設計とプロセスチューニングで対応します。

    生産に重要な、タクト、異物管理も対応した装置を準備しています。