本多電子

主な用途
・磁気ヘッド洗浄
・シリコンウェーハ洗浄
・サファイアウェーハ洗浄
・半導体デバイス加工後の洗浄
・ハードディスク洗浄
・ダメージの出やすいアルミや鏡面研磨品等の洗浄

対象の汚れ
・パーティクル
・フラックス
・薬液

特長
・デジタル制御により、安定した発振が可能です。
・多彩なインターフェースにより、洗浄装置に合わせた制御が可能です。
・1W単位での超音波出力調整が可能です。

主に液晶ガラスを洗浄するために、カーテン状の洗浄液流水に超音波を重畳させてパーティクルを洗浄するラインタイプの流水式超音波洗浄機です。

この方式はポイントタイプと同様に、パーティクルの再付着がなく、サブミクロンのパーティクル除去率が高いという特徴があります。

定電力デジタル発振器採用のパルスジェット洗浄機。

水温・周囲温度の変化に対応し、安定した超音波を発振します。
振動子の駆動周波数は、振動子の電圧・電流の位相を一定にするよう追従します。出力は、振動子への供給するエネルギーを一定にするため定電力で制御しています。周波数の追従と定電力制御が協調することにより、振動子からの超音波発振を安定化するとともに、発振器の損失を抑えます。

ノズル交換時の発振器の調整が不要
同一仕様のノズルとケーブルに交換する場合、発振器との調整が不要でメンテナンスが容易です。

出力監視
RS422Aに対応し、外部出力可変が可能です。電圧出力値を4-20mAでも出力します。

特長
微細化パターンのウェーハを低ダメージで洗浄

■石英振動体に超音波を重畳させて、半導体ウェーハを洗浄します
石英振動体から薬液を通じて半導体ウェーハに超音波振動を伝播させることで、接触部の薬液が振動して、その加速度によって表面の汚れを除去します。
■半導体ウェーハにダメージが少ない、クリーンな洗浄を実現します
薬液との接液部に石英を用いることで、パッキン等ゴム材を使用した装置と比べてゴムの溶出や摩耗がなくクリーンな洗浄を実現します。
■振動子冷却機能付きのため、振動子を気体(窒素等)で冷却することで周波数変動がなく安定した連続運転が可能。
また、冷却することで急激な温度変化がなく長寿命に。

用途
レジスト残渣除去
エッジング後、アッシング後のポリマー除去
Gate電極洗浄
CMP後の洗浄

特長
◆ダイナショックモジュレーション(ＤＭ)方式により、洗浄ムラやダメージを低減し、精密洗浄から金属加工部品等のハード洗浄 まで、用途に合わせた洗浄力の選択が可能です。
◆ＤＭ変調度の選択により、槽全体に高い音圧で均一な超音波を発生します。これにより、ムラのない洗浄が可能です。

用途
金属・機械加工部品洗浄 精密機械加工部品洗浄
プリント基板洗浄 太陽電池関連部品洗浄
HDD部品洗浄 LCD部品洗浄 光学部品洗浄
半導体関連部品洗浄 食品器具・医療器具洗浄