西村ケミテック

①スラリー/ケミカル希釈供給システム
超純水と、スラリー原液＋添加剤（H202）等をCMP装置直前で調合し供給する装置です。（多液混合）
供給濃度の可変も容易、供給中の変更も可能。消費期限、経時劣化などをきにすることなく、PureSlurryを供給できます。
②ドラムキャビネット完全自動化システム（D/C自動装置）
従来手動でドラム交換作業などで発生する問題（ドラムの落下・転倒、セットアップのミス、薬液のロス）を解決したドラム交換・供給の完全自動化を実健しました。24時間対応可能なドラム交換で安定的原液供給が可能となりますので、ドラム交換のコストとタイムロスを削減し、稼働効率をアップします。

半導体工場における各工程、特にプロセス対応やDry,WET工程,メタル工程等,西村ケミテックへお問い合わせください。

◆◆◆製品詳細は下記のホームページをご参照お願い致します。

https://nishimura-ct.co.jp/events/

◆◆◆(株）西村ケミテック　スラリー/ケミカル希釈供給システム、ドラムキャビネット完全自動化システムのライブ映像配信　(Youtube配信）◆◆◆

恐れ入りますが該当日時に、下記からご入場をお願い致します。
13日（水）13:00　の視聴は　こちら
14日（木）13:00　の視聴は　こちら
15日（金）13:00　の視聴は　こちら

除害装置の場合、Burn-wet式、Plasma式など様々なラインナップを持っており、国内デバイスメーカー向けに500台以上の実績を持っております。台数増に伴い、西村ケミテックはUNISEM社との連携強化し、立上、保守、メンテ、トラベル対応まで国内窓口として役割を果たしております。

◆◆◆製品詳細は下記のホームページをご参照お願い致します。

https://nishimura-ct.co.jp/events/

半導体、ディスプレイパネルの前工程の多くは、真空状態で行われるため、真空ポンプで一定の空間で気体を含む各種の物質を吸って真空状態を作ります。同社ポンプは、同じ形のネジカップル噛み合っ回転しながら気体を吸入、排気するスクリュー（Screw）方式であり、合他社が活用するルーツ（Roots）と比較して部品数が少なく、排気量が高いのがメリットです。

◆◆◆製品詳細は下記のホームページをご参照お願い致します。

https://nishimura-ct.co.jp/events/

半導体産業の根幹である半導体ウエハをクリーンかつ安全に搬送する容器です。
様々なウエハサイズに対応できるラインナップを揃え、厳しい性能試験をパスした信頼性の高い容器で
高い付加価値をご提供致します。

詳細は下記ホームページをご参照お願い致します。

半導体ウエハ輸送容器 | 製品情報 | 三甲株式会社 (sanko-kk.co.jp)

➀Accusizer-mini:CMP-slurry中のLPC On-line Monitor
CMP-Slurry中粗大粒子(LPC)のOn-Lineモニタリングアプリケーション。
お客様のアプリケーションに応じて変更可能なLE400,FX,FX-nanoのセンサーアプリケーションにより、
幅広い粒子サイズ、濃度に対応します。
NYSのSlurry供給システムとOn-Line統合する事により、希釈・調製されたスラリーをOn-Line/リアルタイムに
監視する事で、プロセスの安定性向上、歩留まり低下に寄与します。

詳細は下記ホームページをご参照お願い致します。

AccuSizer ® ミニ CMP スラリーモニター (entegris.com)

②Semichem:Potentiometryを主とした、On-Line薬液濃度Monitor
半導体製造プロセスにおけるChemicalを自動サンプリングし、その濃度を電気化学的手法で分析する事で、
On-Lineモニタリングを行います。
Lab.レベルの分析を、製造プロセスに応用する事で、迅速かつ正確なプロセス制御が可能。
NYSのSlurry/Chemical供給装置とOn-Line統合する事で、Chemical濃度を高精度測定、濃度減衰の補正を
行う事で、プロセスの安定性向上、歩留まり低下に寄与します。

詳細は下記ホームページをご参照お願い致します。

SemiChem アドバンスド プロセス モニター | 濃度計 | JPY | Entegris