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ノベリオンシステムズ

木津川市,  京都府 
Japan
https://www.novelion-sys.com/
  • 小間番号7424


先進のプラズマ技術で微細加工の未来を拓く!

 

 当社は,核融合プラズマ加熱装置用の大電流負イオン源技術を起源とする,技術開発型ベンチャー企業です.

 近年,各種センサー素子や高周波回路素子の利用の広がりに伴い,圧電薄膜や磁性薄膜など,従来のシリコンプロセス装置では加工困難な材料にも対応できる,微細加工技術が求められています.当社では,このような新規の技術要求に応えるべく,酸素や各種の活性ガスが使用できる,ECR放電型の高密度プラズマ源および大電流イオンビーム源の開発を進めています.

 SEMICON Japan 2023では,以下の製品・サービスをご提案します.
(1) 酸/窒化薄膜形成プロセス装置にて運用実績がある,
      『小型ECR原子状ビーム源(ERS-35)』
(2) 高速エッチング装置や活性プラズマ処理装置にも適用できる,
      『高出力ECRプラズマ源(EPS-120)』
(3) 反応性イオンビームミリング装置に適用できる,
      『ECRラインビームイオン源(ELBS-150)』
(4) 高速イオンビームミリング装置に適用できる,
      『大電流DC放電型ラインビームイオン源(LBS-120HC)』

(5) プラズマ・イオンビーム応用装置に関する受託開発サービス


 出展製品

  • 小型ECR原子/ラジカルビーム源(ERS-35)
    MBE等の超高真空装置にも適応できるECR(電子サイクロトロン共鳴)放電型の小型原子ビーム源(ラジカル源)...

  • 【特長】
    ・完全メタルシールにより超高真空装置に対応
    ・取り扱いが容易な同軸ケーブル給電
    ・メタルコンタミフリーの誘電体ライニング
    ・ラジカルビームの発生に優れた,バイアス電極付きの誘電体引出グリッド


    【装置仕様】
    ・接続真空ポート規格 : ICF70
    ・同軸コネクタ規格 : N型
    ・適合マイクロ波周波数 : 2.45 GHz
    ・許容マイクロ波電力 : 最大 100 W
    ・冷却方式 : 水冷


    【応用例】
    ・MBE装置の窒素/酸素ラジカル源
    ・表面クリーニングのための原子状水素源

  • 高出力ECRプラズマ源(EPS-120)
    微細加工装置に適用できるECR(電子サイクロトロン共鳴)放電型の高出力プラズマ源...

  • 【特長】
    ・独創的な磁石構成による大容積ECR磁場
    ・強力な冷却システムによるkW級大電力動作
    ・メタルコンタミフリーの誘電体ライニング
    ・複数配置により大面積プラズマを実現するモジュールコンセプト


    【装置仕様】
    ・接続真空ポート口径 : Φ120 mm
    ・接続導波管規格 : WR340
    ・適合マイクロ波周波数 : 2.45 GHz
    ・許容マイクロ波電力 : 最大2,000 W
    ・冷却方式 : 水冷


    【応用例】
    ・ドライエッチング装置やアッシング装置のソースパワー
    ・反応性イオンビーム加工装置(RIBE)のイオン源
    ・イオン窒化・酸化装置やDLC成膜装置のプラズマソース

  • ECRラインビームイオン源(ELBS-150)
    反応性イオンビームミリング装置に適用できる,ECR(電子サイクロトロン共鳴)放電型のラインビームイオン源...

  • 【特長】
    ・独創的な磁路設計による均一長尺イオンビーム
    ・新開発の大型同軸導入端子(7/16型)による大電力マイクロ波駆動
    ・メタルコンタミフリーの誘電体ライニング
    ・新開発の長寿命ビーム電極

    【装置仕様】
    ・ビームサイズ : 幅150 mm
    ・ビームエネルギー : 100~2,000 eV
    ・ビーム電流密度 : 最大 10 mA/cm2
    ・接続同軸コネクタ規格 : DIN 7/16
    ・適合マイクロ波周波数 : 2.45 GHz
    ・許容マイクロ波電力 : 最大500 W
    ・冷却方式 : 水冷

    【応用例】
    ・MEMS構造体の高速ミリング形成
    ・磁気ヘッドのミリング加工
    ・高周波回路のトリミング調整 など

  • 大電流DC放電型ラインビームイオン源(LBS-120HC)
    高速イオンビームミリング装置に適用できる大電流DC放電型の全自動ラインビームイオン源...

  • 【特長】
    ・熱陰極を用いた大電流密度イオンビーム
    ・最適化された磁界設計による優れたビーム分布均一性
    ・完全自動化された電源制御システムによる高速ビーム調整


    【装置仕様】
    ・ビームサイズ:120mm×10mm(大型基板対応可能)
    ・ビームエネルギー:100~2,000 eV
    ・ビーム電流密度:最大10mA/㎠
    ・イオン化ガス:水素、窒素、希ガス など
    ・冷却方式:水冷


    【応用例】
    ・MEMS構造体の高速ミリング加工
    ・磁気メモリの微細ミリング加工
    ・高周波素子の共鳴周波数調整

  • プラズマ・イオンビーム応用装置に関する受託開発サービス
    プラズマ・イオンビーム応用装置の要素技術開発は当社にお任せください。  お客様の課題解決に向けて、開発構想のご提案、開発装置の設計/製作、性能評価、成果レポートの作成など、トータルサービスでお引き受けします。 ...

  • ☆研究開発テーマがあっても設計ができる人材がいない・・・

    ☆現有の装置がうまく機能しないがどう改造していいかわからない・・・

    ☆新規事業を立ち上げたいがプラズマイオンビームについて専門知識がない

    ☆材料の表面処理・改質がうまくできない・・・

    ☆シミュレーションを使った高度な設計がしたい・・・

    こんな事でお困りの時は当社にご相談ください!!