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協同インターナショナル

川崎市宮前区宮崎,  神奈川県 
Japan
http://www.kyodo-inc.co.jp
  • 小間番号7209

ブース#7209の方では、スイスのEulitha AG社のPhable技術を利用した低価格の露光装置及びアプリケーションなどを紹介しております。

　PhableR：主に研究開発、少量生産向けのマニュアルオペレーション露光装置。～200mmウェハまで対応。

　PhableX：カセット方式による自動処理。量産向け露光装置。～200mmウェハまで対応。

　PhableS：ステップアンドリピート方式の大量生産向け露光装置。～300mmウェハに対応（ご要望があれば更に大きなサイズも）

各シリーズ共に、タルボ効果を利用したDTL(Didplacement Talbot Lithography)技術により、光源波長の限界に近い解像度で均一に非接触露光が可能です。特に周期的なリニアグレーチング、２Dパターン(正方配列、三方配列)等においてその特徴を最大限に発揮します。

光源のオプションにより、UV光源の場合に125nm～(ハーフピッチ）、DUV光源の場合に65nm(ハーフピッチ)～の解像度を実現。

アプリケーション例：
大学、研究機関
  ナノオプティクス、ナノ材料、プラズモニクス、R & D、等
XR (AR/VR/MR)
  ウェーブガイド、 ヘッドアップディスプレイ (HUD)、等
オプトエレクトロニクス
  DFB/DBRレーザー、 VCSEL 偏光回析格子、PCSEL フォトニック結晶、ナノワイヤーデバイス、PSS、等
光学部品
  通信用回析格子、反射防止、ワイヤーグリッド （偏光）、レーザー回析格子、分光計の回析格子、スポーツ光学 – レチクル、等
バイオメディカル
  生体分子センサー、X線イメージング、等
色の視覚効果
  構造色、セキュリティ応用、等

＊　ブース#5333の方では、受託加工サービス、NIL、MEMS、IoT関連製品なども紹介しておりますので、そちらへも是非お越しください。

 出展製品

  • Eulitha社　PhableR
    Displacement Talbot Lithography(DTL)技術による低コストノンコンタクト高解像度露光装置。 研究開発・少量生産向け...

    • 特徴:
    • 少量生産、R＆D用露光システム
    • 非接触露光：マスク及び基板のダメージやコンタミから保護
    • 均一性と再現性の高いプリンティング
    • 1D 及び 2Dの周期的なパターンに最適
    • 非平坦な基板にも対応
    • 薄い硝子基板にも対応
    • 高解像度: <65nm もしくは 125nm (UV及びDUV光源での最小ハーフピッチ)
    • オーバーレイ位置合わせ可能
    • 市販のマスクやフォトレジストで使用可能
    • アプリケーションサポート：　フォトレジスト、マスク
    • メンテナンス及びオペレーションコストが安い

  • Eulitha社　PhableX
    Displacement Talbot Lithography(DTL)技術による低コストノンコンタクト高解像度露光装置。 カセット方式自動機。量産向け。...

    • 特徴:
    • 周期的パターン製品の量産向け露光システム
    • 非接触露光：マスク及び基板のダメージやコンタミから保護
    • カセット式自動ウェハ処理
    • 均一性と再現性の高いプリンティング
    • 1D 及び 2Dの周期的なパターンに最適
    • 非平坦な基板にも対応
    • 薄い硝子基板にも対応
    • 高解像度: <65nm ハーフピッチ
    • 事実上無限大焦点深度
    • 光源： UV及びDUVレーザー
    • オーバーレイ位置合わせ自動調整
    • アプリケーションサポート：　フォトレジスト、マスク
    • メンテナンス及びオペレーションコストが安い
    など。
  • Eulitha社　PhableS
    Displacement Talbot Lithography(DTL)技術による低コストノンコンタクト高解像度露光装置。 ステップアンドリピート方式。大量生産向け。...

    • 特徴:
    •周期的パターン製品の 大量生産向けステッパータイプ露光システム
    • 200mm及び300mmウェハの全面露光が可能
    • 非接触露光：マスク及び基板のダメージやコンタミから保護
    • カセット式自動ウェハ処理
    • マスクの自動ハンドリング（6インチ規格）
    • 最大140mm x 140mmの露光エリア
    • 均一性と再現性の高いプリンティング
    • 1D 及び 2Dの周期的なパターンに最適
    • 解像度: <65nm ハーフピッチ
    • オーバーレイ位置合わせ自動調整
    • 非平坦な基板にも対応
    • 薄い硝子基板にも対応
    • 簡易欠陥管理機能
    • ポスト露光ベーク(PEB)モジュールの統合（オプション）
    • メンテナンス及びオペレーションコストが安い
    • プラットフォームのカスタム対応

Categories

207 装置、プロセス
  • リソグラフィ；露光/アライナ/直接描画装置/ステッパ/スキャナ/ナノインプリント
    • 300 材料、組み立て
  • モールド/封入/ポット材
    • 307 材料、プロセス
  • フォトマスク、完成版またはパターン付
    • 700 製造サービス
  • エッチング/ストリッッピング/クリーニングサービス
  • リソグラフ；パターン形成サービス
  • マスク作成及びリペア
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