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協同インターナショナル

川崎市宮前区宮崎,  神奈川県 
Japan
http://www.kyodo-inc.co.jp
  • 小間番号7209

ブース#7209の方では、スイスのEulitha AG社のPhable技術を利用した低価格の露光装置及びアプリケーションなどを紹介しております。

 PhableR:主に研究開発、少量生産向けのマニュアルオペレーション露光装置。~200mmウェハまで対応。

 PhableX:カセット方式による自動処理。量産向け露光装置。~200mmウェハまで対応。

 PhableS:ステップアンドリピート方式の大量生産向け露光装置。~300mmウェハに対応(ご要望があれば更に大きなサイズも)

各シリーズ共に、タルボ効果を利用したDTL(Didplacement Talbot Lithography)技術により、光源波長の限界に近い解像度で均一に非接触露光が可能です。特に周期的なリニアグレーチング、2Dパターン(正方配列、三方配列)等においてその特徴を最大限に発揮します。

光源のオプションにより、UV光源の場合に125nm~(ハーフピッチ)、DUV光源の場合に65nm(ハーフピッチ)~の解像度を実現。

アプリケーション例:
大学、研究機関
  ナノオプティクス、ナノ材料、プラズモニクス、R & D、等
XR (AR/VR/MR)
  ウェーブガイド、 ヘッドアップディスプレイ (HUD)、等
オプトエレクトロニクス
  DFB/DBRレーザー、 VCSEL 偏光回析格子、PCSEL フォトニック結晶、ナノワイヤーデバイス、PSS、等
光学部品
  通信用回析格子、反射防止、ワイヤーグリッド (偏光)、レーザー回析格子、分光計の回析格子、スポーツ光学 – レチクル、等
バイオメディカル
  生体分子センサー、X線イメージング、等
色の視覚効果
  構造色、セキュリティ応用、等

* ブース#5333の方では、受託加工サービス、NIL、MEMS、IoT関連製品なども紹介しておりますので、そちらへも是非お越しください。


 出展製品

  • Eulitha社 PhableR
    Displacement Talbot Lithography(DTL)技術による低コストノンコンタクト高解像度露光装置。 研究開発・少量生産向け...

  • 特徴:
    • 少量生産、R&D用露光システム
    • 非接触露光:マスク及び基板のダメージやコンタミから保護
    • 均一性と再現性の高いプリンティング
    • 1D 及び 2Dの周期的なパターンに最適
    • 非平坦な基板にも対応
    • 薄い硝子基板にも対応
    • 高解像度: <65nm もしくは 125nm (UV及びDUV光源での最小ハーフピッチ)
    • オーバーレイ位置合わせ可能
    • 市販のマスクやフォトレジストで使用可能
    • アプリケーションサポート: フォトレジスト、マスク
    • メンテナンス及びオペレーションコストが安い

  • Eulitha社 PhableX
    Displacement Talbot Lithography(DTL)技術による低コストノンコンタクト高解像度露光装置。 カセット方式自動機。量産向け。...

  • 特徴:
    • 周期的パターン製品の量産向け露光システム
    • 非接触露光:マスク及び基板のダメージやコンタミから保護
    • カセット式自動ウェハ処理
    • 均一性と再現性の高いプリンティング
    • 1D 及び 2Dの周期的なパターンに最適
    • 非平坦な基板にも対応
    • 薄い硝子基板にも対応
    • 高解像度: <65nm ハーフピッチ
    • 事実上無限大焦点深度
    • 光源: UV及びDUVレーザー
    • オーバーレイ位置合わせ自動調整
    • アプリケーションサポート: フォトレジスト、マスク
    • メンテナンス及びオペレーションコストが安い
    など。
  • Eulitha社 PhableS
    Displacement Talbot Lithography(DTL)技術による低コストノンコンタクト高解像度露光装置。 ステップアンドリピート方式。大量生産向け。...

  • 特徴:
    •周期的パターン製品の 大量生産向けステッパータイプ露光システム
    • 200mm及び300mmウェハの全面露光が可能
    • 非接触露光:マスク及び基板のダメージやコンタミから保護
    • カセット式自動ウェハ処理
    • マスクの自動ハンドリング(6インチ規格)
    • 最大140mm x 140mmの露光エリア
    • 均一性と再現性の高いプリンティング
    • 1D 及び 2Dの周期的なパターンに最適
    • 解像度: <65nm ハーフピッチ
    • オーバーレイ位置合わせ自動調整
    • 非平坦な基板にも対応
    • 薄い硝子基板にも対応
    • 簡易欠陥管理機能
    • ポスト露光ベーク(PEB)モジュールの統合(オプション)
    • メンテナンス及びオペレーションコストが安い
    • プラットフォームのカスタム対応