Shanghai JHEAT Technology

製品の概要 

Waferウェハーワイヤレス温度測定システムはウェハーエッチングプロセス、環境のウェハーへの影響をキャッチすることができ、チップ制造の各重要なステップで直接、リアルタイムのウェハー温度測定を提供することができます。これらの包括的な温度データを使用して、プロセスエンジニアはプロセス条件を特徴付けて微調整することができ、プロセス装置の性能、ウエハの品質、およびスループットを向上させることができます。Waferウエハーワイヤレス温度測定システムは、先端製品の生産プロセスフローにおける温度変化を監視し、技術的な封鎖を突破するために使用されます。 

製品の特長

1.精度が高く、応用が柔軟で、サンプリング速度が速い。

2.スキャン速度は10Hzに達することができて、温度の精度は1mKに達することができます。

3.無線通信方式を採用し、連続勤務時間が60分を超えないこと。

製品パラメータ

製品の概要

Waferウエハの有線温度測定システムは、先端製品の生産プロセスフローの中の温度変化状况を監視するために使用されて、ウエハエッチングプロセス、環境のウエハへの影響をキャッチすることができて、チップ制造の各重要なステップで直接、リアルタイムのウエハ温度測定を提供することができます。

製品の特長

1.精度が高く、応用が柔軟で、サンプリング速度が速い。

 2.スキャン速度は10Hzに達することができて、温度の精度は1mKに達することができます。

3.有線通信方式を採用する。

製品パラメータ

製品の概要

重水素ランプ、石英窓ハロゲンタングステンランプ、ロングアークキセノンランプなどの従来の放射校正光源は200nm-800nmの範囲内で高い出力を維持することができず、スペクトル測定範囲に非常に大きな制限がある。広スペクトル光源はフォトルミネッセンス原理を採用し、レーザー駆動ガスプラズマを利用して発光し、レーザー駆動を実現する。この光源は170nmから2100nmまでのスペクトル範囲で超高輝度の発光を提供することができ、しかも光源全体の発光寿命も従来の光源に比べて1桁高い。

製品の特長

1.  100 μ mオーダーの発光プラズマを実現でき、170 nm-2100 nmの波長範囲内で超高輝度を持つ、。

2.  超高速測定、スペクトル放射輝度>10mW/nm/mm²/sr。

3.  超長寿命、超安定性、超低コスト、高い光学的柔軟性。

製品アプリケーション

紫外可視光分光分析

モノクロメータ光源

はくまくけんしゅつ

フィルタ/光学素子試験

原子吸光スペクトル

材料フィーチャーのチェック

かんきょうかいせき

こうぶんこうがぞう

きそうぶんせきそくてい

光センサ検出

生命科学およびバイオイメージング

製品の概要

フォトマスクは、フォトマスクとも呼ばれ、マイクロエレクトロニクス製造におけるフォトリソグラフィ工程で使用されるパターンマスタであり、不透明な遮光性薄膜により透明基板上にマスクパターンを形成し、露光によりパターンを製品基板上に転写する。半導体チップの加工制造プロセスでは、フォトマスク版の表面の温度均一性は非常に高く、厳しい温度測定と制御が必要です。フォトマスク版の温度分布を正確に測定するためにマスク無線温度測定システムを使用する。

製品の特長

1. 体積が小さく、精度が高く、サンプリング速度が速い。

2. 温度精度は最大1mK、。

3. 無線通信方式を採用し、応答時間が短く、収集頻度が速く、100分以上の連続稼働が可能だ。

製品パラメータ

製品の概要

フォトリソグラフィシステムは製造チップのコア装備であり、その中で温度の検出は特に重要であり、温度はフォトレジストの流れに影響し、フォトリソグラフィの歩留まりに影響する。小型無線温度記録装置は、小型で軽量で、持ち運びに便利です。露光装置、リソグラフィ装置等の温度検出記録に適しています。

製品の特長

1. 体積が小さく、精度が高く、柔軟で汎用的である。

2. 温度精度は最大10mK、。

3. 無線通信方式を採用し、応答時間が短く、収集頻度が速く、10日間を超える連続稼働が可能だ。

製品パラメータ