In our booth (#7209), we introduce low-cost lithography system that use Phable technology.
PhableR：Manual operation. For R&D low volume production. ~200mm wafer size is supported.
PhableX：Cassette to cassette automatic operation, ~200mm wafer size is supported.
PhableS：Step and repeat operation. For high volume production. ～300mm wafer size is supported. (larger size on request)
Common:
Eulitha's breakthrough Displacement Talbot Lithography (DTL) technology enables high resolution printing near the wavelength limit in a non-contact configuration. Structures such as sub-micron period linear gratings and 2D patterns such as hexagonal and square gratings are printed with high uniformity.
Depending on light source options, resolution is 125nm~(half-pitch) with UV or 65nm~(half-pitch) with DUV.
Applications:
ACADEMIC
Nano Optics, Nano Materials, Plasmonics, Research & Development
XR (AR/VR/MR)
Near-Eye Waveguides, Head-Up Displays (HUD)
OPTOELECTRONICS
DFB/DBR Lasers, VCSEL Polarizer Gratings, PCSEL Photonic Crystals, Nanowire Devices
OPTICAL COMPONENTS
Telecom Gratings, Anti-Reflective Surfaces, Wire Grid (Polarizers), Laser Diffraction Gratings, Spectrometer Gratings
BIO MEDICAL
Bio Molecular Sensors, X-Ray Imaging
COLOR VISUAL EFFECTS
Structural Colors, Security Applications
and so on.
******************************
Eulitha AG社のPhable技術を利用した低価格の露光装置及びアプリケーションなどを紹介しております。
PhableR：主に研究開発、少量生産向けのマニュアルオペレーション露光装置。～200mmウェハまで対応。
PhableX：カセット方式による自動処理。量産向け露光装置。～200mmウェハまで対応。
PhableS：ステップアンドリピート方式の大量生産向け露光装置。～300mmウェハに対応（ご要望があれば更に大きなサイズも）
各シリーズ共に、タルボ効果を利用したDTL(Didplacement Talbot Lithography)技術により、光源波長の限界に近い解像度で均一に非接触露光が可能です。特に周期的なリニアグレーチング、２Dパターン(正方配列、三方配列)等においてその特徴を最大限に発揮します。
光源のオプションにより、UV光源の場合に125nm～(ハーフピッチ）、DUV光源の場合に65nm(ハーフピッチ)～の解像度を実現。
アプリケーション例：
大学、研究機関
ナノオプティクス、ナノ材料、プラズモニクス、R & D、等
XR (AR/VR/MR)
ウェーブガイド、 ヘッドアップディスプレイ (HUD)、等
オプトエレクトロニクス
DFB/DBRレーザー、 VCSEL 偏光回析格子、PCSEL フォトニック結晶、ナノワイヤーデバイス、PSS、等
光学部品
通信用回析格子、反射防止、ワイヤーグリッド （偏光）、レーザー回析格子、分光計の回析格子、スポーツ光学 – レチクル、等
バイオメディカル
生体分子センサー、X線イメージング、等
色の視覚効果
構造色、セキュリティ応用、等