半導体製造プロセスにおけるパーティクル計測課題に豊富な製品力で対応いたします。
最先端の半導体製造プロセスでは、微細化の進歩とともに「シングルナノ」がキーワードとなっています。
パーティクルによるコンタミもシングルナノレベルでの管理が求められるため、デバイスメーカーやファウンドリはもちろん、半導体製造装置メーカー、洗浄液・プロセスガスやそれら供給システムを構成する各種部品メーカーも、より高いレベルでのコンタミ低減に注力しています。
当社が有する計測装置群は、シングルナノパーティクル計測課題への有力なソリューションとしてご利用頂けます。
本展示ブースでは、シングルナノパーティクルの粒径・個数計測・分級捕集が可能な計測器や、卓上利用可能な金属ナノ粒子生成装置を展示します。
パーティクル計測に関するご相談などございましたら、お気軽にご来訪・お問合せください。
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計測装置
シングルナノサイズ対応ナノ粒径測定 SMPS3938シリーズ
DMAとCPCの自由選択で構成される走査式ナノ粒子粒径分布計測器
- 微分型電気移動度法(DMA法)を用いた高粒径分解能計測。
- シングルナノ粒径の計測に対応 (1.1 ～ 1000 nm)。
- 任意粒径パーティクルの抽出が可能。
- 噴霧乾燥法と組合せて湿式計測に適用可能。計測対象はCMPスラリ、IPA、過酸化水素水、超純水など。
商品紹介URL：走査式モビリティーパーティクルサイザー_TSI_SMPS 3938シリーズ |東京ダイレック株式会社 (t-dylec.net)
サンプラー
スポットサンプラー 110Aシリーズ
空間中のナノ粒子を集中的に捕集サンプリング
- 粒子の跳ね返りもなく、高い捕集効率を有する。（5 nm～2.5 μmのドライ捕集 >95 %。5 nm～10 μmの液中捕集 >90 %。）
- LiquiScan SMPSと組み合わせることで、単分散化後のパーティクルを捕集可能。
- サンプリング設定は1分～24時間で連続サンプリングが可能。
- 濃縮サンプルの少量抽出により、分析感度を向上（検出限界/定量下限）。
- 25mmシリコンウエハへの捕集が可能。
商品紹介URL：ナノエアロゾルサンプラー(高効率) _Aerosol Device Inc._Spot-Sampler |東京ダイレック株式会社 (t-dylec.net)
粒子発生器
ナノ粒子ジェネレーター VSP-G1
多様な元素材料を簡易にナノ粒子化
- スパーク放電(スパークアブレーション)法を用いて、卓上で金属ナノ粒子を高速生成。
- １atom～の超微粒子を最大100 mg/h (～1011 個/cc)で生成。
- 化学薬品不要で容易にナノ粒子の粒径や出力をコントロール。
- 高い再現性、安定性。
商品紹介URL：ナノ粒子ジェネレーター_VSParticle_VSP-G1 |東京ダイレック株式会社 (t-dylec.net)
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