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AIの発展を支える半導体製造技術「HMB（High Bandwidth Memory）」の
性能を左右する重要な工程である、高品位絶縁膜形成の装置を紹介します。
PEGASUS（HDP-CVD）は、高密度プラズマ技術をベースに、複雑な構造に
対し、高品位な膜の形成と生産性に優れたシステムの装置を完成しました。
CVD装置の他に高速チャンバークリーニング用のリモートプラズマや
ヒーターステージも紹介しています。
HBMの製造には、様々な絶縁膜の形成が必要です。
基板接合膜、電極外周絶縁膜、分離絶縁膜等の形成に、PEGASUS（HDP-CVD）は、ガス分解効率に優れた高密度プラズマ技術をベースに
膜質、カバレッジ性等を調整し最適化をします。