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アドテックエンジニアリング

港区,  東京都 
Japan
http://www.adtec.com/
  • 小間番号1834

ご検索ありがとうございます。

アドテックエンジニアリングは1983年に設立され、露光装置のリーディングカンパニーとして成長してきています。
弊社はフォトマスクを使用するコンタクト式露光装置から最先端のマスクレス露光装置まで製品ラインナップを拡大し、世界中の顧客に製品を提供し大きな市場シェアを獲得していると同時に、超精密機械加工や工場自動化(FA)機器にも事業展開しています。

今回は品質、性能、安定性を兼ね備えた次世代マスクレス露光装置を出展いたします。ご来場をお待ちしております。
 

ADTEC Engineering is a leading lithography equipment company established in 1983”.

Our product lineup includes contact-type exposure systems that use photomasks and non-contact direct write maskless exposure systems with proven quality, performance and stability. Our product portfolio also covers precision machining and factory automation (FA) equipment.

The Direct write exposure system will be exhibited at the show. We look forward to seeing you there.


 プレスリリース

  • 露光装置メーカーの(株)アドテックエンジニアリングです。

    ワンタイムスキャンおよびワイドレンジ・オートフォーカス機能を持つ、プリント基板・半導体パッケージ基板向け直描式露光装置の設計開発および保守販売を行っております。

    L/S=5/5um有機サブストレート量産適用を目指し、長年培ってきた露光技術の粋を結集し、新製品:DI「IP-NX7000」をリリースします。


 出展製品

  • IP-NX7000
    L/S=5/5um有機サブストレート量産適用を目指し、長年培ってきた露光技術の粋を結集。...

  • チップレットを中心に半導体後工程が脚光を浴びる中、微細化の進む半導体パッケージサブストレートは、L/S=5/5umへと進化していきます。
    次世代を担う "NEXT" INPREXは、微細化と高生産性の両立をターゲットに、従来装置の特長であるワンタイムスキャンを継承しながら、現像後の最高解像性能L/S=2/2umを実現。
    L/S=5/5umサブストレート量産化を後押しします。
  • DE-2, DE-8
    FO-WLP&PLPおよび高精細パッケージング用マスクレス直描露光機...

  • 【DE-2】
    FOプロセス、高精細パッケージに特化した解像性能2μm L/Sの新型機

    【DE-8】
    Fan-Out Chip-First工程で月産7,400m2の量産に貢献している8μm L/S機

    マスクレス直接描画露光装置の特長は、基板の寸法変化に合わせてリアルタイムに回路パターンデータを補正し、フォトマスクを使わずに露光ができます。
    さらに両機種とも、Deca社のアダプティブパターニング(TM)に接続が可能です。
    アダプティブパターニング(TM)は、ダイシフトや寸法変化に合わせ、デザインルールに則ってパッケージ毎の回路パターンをカスタマイズし、高精度のチップマウンタを必要とせず、高次元の歩留まりを実現します。