佐賀大学 プラズマエレクトロニクス研究室

• 小間番号7748

本研究室では、半導体デバイスの製造装置として利用されているプラズマ装置の研究開発を行っております。主に、スパッタ装置、PECVD装置用の新しい方式の高周波プラズマ装置の開発を目指しております。本展示会では、最近、開発した装置の原理や特徴などを詳細にご説明いたします。

 プレスリリース

• 半導体製造装置～AZO透明導電膜新方式スパッタ、マルチマグネトロンスパッタ、ホローカソードプラズマ～ (20241101)

  本展示会では、(1)AZO透明導電膜新方式スパッタ、(2)超撥水性薄膜合成の高周波マグネトロンプラズマ特性、(3)マルチマグネトロンスパッタ、(4)ホローカソードプラズマの4つのテーマについて最新の成果をご説明します。

• Semiconductor manufacturing equipment - AZO transparent conductive film new method sputtering, multi-magnetron sputtering, hollow cathode plasma - (20241101)
  At this exhibition, we will explain our latest achievements in the following four areas: (1) a new method of sputtering AZO transparent conductive film, (2) high-frequency magnetron plasma characteristics for synthesizing super-water-repellent thin films, (3) multi-magnetron sputtering, and (4) hollow cathode plasma.