実機展示
【 概要 】
・この装置は13.56MHｚの高周波を利用したプラズマ発生装置です。
・主な利用分野は、電子顕微鏡などの表面観察・分析装置において、真空容器内壁に付着した有機系コンタミネーションの除去です。
【 特徴 】
・特許取得のガス導入流量調整パイプとプラズマ着火方法を採用することで、クリーニング時間によらず（長時間にわたって）真空容器内の圧力は変動しません。
なお、クリーニングプロセスの圧力は、処理する装置の仕様等をお客様と協議のうえで設定し、所定の圧力に最適化した流量調整パイプを使用します。
・クリーニングプロセス中に圧力が変動しないため、RFの反射量が変動することはなく、安定したプラズマを生成することが可能です。
・プラズマ着火前にクリーニングの条件（RF出力、クリーニング時間）を設定すれば、ワンタッチで処理が完了までのプロセスを遂行します。
・クリーニング条件はタッチパネルから設定可能で、放電状態（RF入反射）も表示可能です。
・RoHS認定品
【 機器仕様 】
ユニット名：CP-Plasner®
ユニット型式：CPP-U01
【 機器構成 】
機器名：Head
型式：CPP-H01
プラズマ方式：誘導結合プラズマ（ICP）
大気導入機構：ガス導入流量調整パイプ
クリーニング真空同：0.1～2Paの範囲で設定（事前に調整します）
接続形状：NW40
寸法：W80mm×D120mm×H183mm
質量：約1.8kg
機器名：Controller
型式：CPP-C01
操作方法：タッチパネル、押し釦スイッチ
レシピ：RF、クリーニング時間を３種類保存可能
寸法：W175mm×D140mm×H73mm
質量：約1.0kg
機器名：RF Power Supply
型式：CPP-R01
RF出力：～４５ｗ
周波数：13.56MHz
電源：AC100V単相6A 電源ケーブル2m
寸法：W206mm×D260mm×H111mm
質量：約3.0kg